Than chì phủ TaC được tạo ra bằng cách phủ lên bề mặt của chất nền than chì có độ tinh khiết cao một lớp cacbua tantalum mịn bằng quy trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) độc quyền.
Tantalum cacbua (TaC) là một hợp chất bao gồm tantalum và carbon. Nó có tính dẫn điện bằng kim loại và điểm nóng chảy đặc biệt cao, khiến nó trở thành vật liệu gốm chịu lửa được biết đến với độ bền, độ cứng, khả năng chịu nhiệt và mài mòn. Điểm nóng chảy của Tantalum Carbide đạt đỉnh điểm vào khoảng 3880°C tùy thuộc vào độ tinh khiết và có một trong những điểm nóng chảy cao nhất trong số các hợp chất nhị phân. Điều này làm cho nó trở thành một giải pháp thay thế hấp dẫn khi nhu cầu nhiệt độ cao hơn vượt quá khả năng hiệu suất được sử dụng trong các quy trình epiticular bán dẫn hỗn hợp như MOCVD và LPE.
Dữ liệu vật liệu của lớp phủ Semicorex TaC
Dự án |
Thông số |
Tỉ trọng |
14,3 (gm/cm³) |
Độ phát xạ |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
Độ cứng (HK) |
2000 |
Điện trở (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Ổn định nhiệt |
<2500oC |
Thay đổi kích thước than chì |
-10~-20um (giá trị tham khảo) |
Độ dày lớp phủ |
≥20um giá trị điển hình (35um±10um) |
|
|
Trên đây là những giá trị điển hình |
|
Khay wafer phủ Semicorex TaC phải được thiết kế để chịu được những thách thức của các điều kiện khắc nghiệt trong buồng phản ứng, bao gồm nhiệt độ cao và môi trường phản ứng hóa học.**
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm phủ Semicorex TaC nổi bật như một thành phần hiệu suất cao đáp ứng yêu cầu của quy trình tăng trưởng epiticular và các môi trường sản xuất chất bán dẫn tiếp theo. Với hàng loạt đặc tính vượt trội, cuối cùng nó có thể nâng cao năng suất và hiệu quả chi phí của các quy trình chế tạo chất bán dẫn tiên tiến.**
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon là tài sản không thể thiếu trong thế giới epit Wax, cung cấp giải pháp mạnh mẽ cho những thách thức đặt ra bởi nhiệt độ cao, khí phản ứng và các yêu cầu nghiêm ngặt về độ tinh khiết.**
Đọc thêmGửi yêu cầuLớp phủ phủ Semicorex CVD TaC đã và đang trở thành một công nghệ quan trọng trong các môi trường đòi hỏi khắt khe trong lò phản ứng epit Wax, đặc trưng bởi nhiệt độ cao, khí phản ứng và các yêu cầu nghiêm ngặt về độ tinh khiết, đòi hỏi phải có vật liệu chắc chắn để đảm bảo sự phát triển tinh thể nhất quán và ngăn ngừa các phản ứng không mong muốn.**
Đọc thêmGửi yêu cầuVòng dẫn hướng lớp phủ Semicorex TaC đóng vai trò là bộ phận quan trọng trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD), đảm bảo phân phối chính xác và ổn định các khí tiền chất trong quá trình tăng trưởng epiticular. Vòng dẫn hướng lớp phủ TaC thể hiện một loạt các đặc tính khiến nó trở nên lý tưởng để chịu được các điều kiện khắc nghiệt có trong buồng lò phản ứng MOCVD.**
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex TaC Coating wafer Chuck được coi là đỉnh cao của sự đổi mới trong quy trình epit Wax bán dẫn, một giai đoạn quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn. Với cam kết cung cấp các sản phẩm chất lượng hàng đầu với giá cả cạnh tranh, chúng tôi sẵn sàng trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.*
Đọc thêmGửi yêu cầu