Lò phản ứng lò bán dẫn là thiết bị cốt lõi trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, chủ yếu được sử dụng cho các quy trình quan trọng như oxy hóa nhiệt, khuếch tán, ủ và lắng đọng hơi hóa học. Một hệ thống lò điển hình (Lò khuếch tán ngang/dọc) chủ yếu bao gồm các thành phần cốt lõi sau: hệ thống gia ......
Đọc thêmỦ nhiệt nhanh (viết tắt là RTA hoặc RTP) là công nghệ xử lý nhiệt nhanh trong sản xuất chất bán dẫn. Nguyên tắc cốt lõi của nó là làm nóng nhanh bề mặt tấm bán dẫn bằng nguồn nhiệt bức xạ cường độ cao (chẳng hạn như đèn halogen, tia laser, đèn flash, v.v.), làm nóng tấm bán dẫn đến nhiệt độ cao mục ......
Đọc thêmNgành công nghiệp bán dẫn thế hệ thứ ba đang trải qua quá trình mở rộng công suất nhanh chóng. Các quy trình epit Wax silicon cacbua (SiC) và gallium nitride (GaN) tiếp tục phát triển theo hướng môi trường hoạt động ở nhiệt độ cao, nguyên liệu thô có độ tinh khiết cực cao và các thiết bị chip thu nh......
Đọc thêmTrong sản xuất chất bán dẫn, quá trình oxy hóa liên quan đến việc đặt tấm bán dẫn trong môi trường nhiệt độ cao, nơi oxy chảy qua bề mặt tấm bán dẫn để tạo thành lớp oxit. Điều này bảo vệ tấm wafer khỏi các tạp chất hóa học, ngăn dòng điện rò rỉ đi vào mạch điện, ngăn chặn sự khuếch tán trong quá tr......
Đọc thêmSemicorex cung cấp Chất cảm ứng wafer Graphite phủ TaC tiên tiến được thiết kế cho các quy trình bán dẫn đòi hỏi độ ổn định nhiệt tuyệt vời, khả năng kháng hóa chất và hiệu suất hỗ trợ wafer chính xác. Khi các nhà sản xuất chất bán dẫn tiếp tục phát triển các thiết bị thế hệ tiếp theo, các giải pháp......
Đọc thêmVòng lấy nét là các bộ phận hình khuyên chính xác thường được lắp xung quanh mâm cặp bán dẫn của thiết bị khắc plasma và tiếp xúc trực tiếp với plasma năng lượng cao trong quá trình khắc. Chức năng cốt lõi của chúng là hoạt động như các bộ phận hy sinh để đảm bảo kết quả ăn mòn đồng nhất trên toàn b......
Đọc thêm