Lò CVD được sử dụng cho quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD). Lắng đọng hơi hóa học là một quá trình trong đó một màng mỏng được lắng đọng trên chất nền bằng phản ứng hóa học giữa các khí tiền chất bay hơi và bề mặt được nung nóng.
Lò CVD thường bao gồm buồng chân không, hệ thống phân phối khí, hệ thống gia nhiệt và giá đỡ đế. Buồng chân không được sử dụng để loại bỏ không khí và các loại khí khác khỏi môi trường lắng đọng nhằm ngăn ngừa tạp chất cản trở quá trình lắng đọng. Hệ thống phân phối khí cung cấp khí tiền chất đến bề mặt chất nền nơi chúng phản ứng để tạo thành màng mỏng mong muốn. Hệ thống gia nhiệt làm nóng chất nền đến nhiệt độ cần thiết để phản ứng xảy ra. Giá đỡ chất nền được sử dụng để giữ chất nền cố định trong quá trình lắng đọng.
Trong quy trình CVD, khí tiền chất được đưa vào buồng chân không và được nung nóng đến nhiệt độ nơi chúng phân hủy và phản ứng tạo thành một màng mỏng trên bề mặt được nung nóng. Nhiệt độ và áp suất của môi trường lắng đọng được kiểm soát cẩn thận để đảm bảo đạt được các đặc tính màng mong muốn.
Lò CVD được sử dụng rộng rãi trong ngành công nghiệp bán dẫn để tạo màng mỏng phục vụ chế tạo các thiết bị vi điện tử, chẳng hạn như mạch tích hợp và pin mặt trời. Chúng cũng được sử dụng trong sản xuất các vật liệu tiên tiến như lớp phủ, sợi quang và chất siêu dẫn.
Lò lắng đọng hơi hóa chất Semicorex CVD giúp sản xuất epit Wax chất lượng cao hiệu quả hơn. Chúng tôi cung cấp các giải pháp lò tùy chỉnh. Lò lắng đọng hơi hóa chất CVD của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và đáp ứng hầu hết các thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex là nhà sản xuất và cung cấp quy mô lớn các sản phẩm được phủ Silicon Carbide tại Trung Quốc. Chúng tôi cung cấp các giải pháp lò tùy chỉnh. Lò chân không CVD và CVI của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và bao phủ nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn.
Đọc thêmGửi yêu cầu