tin tức công ty

Những khó khăn kỹ thuật của lò tăng trưởng tinh thể sic là gì

Lò tăng trưởng tinh thể là thiết bị cốt lõi cho sự phát triển của các tinh thể cacbua silicon. Nó tương tự như lò tăng trưởng tinh thể tinh thể truyền thống. Cấu trúc lò không phức tạp lắm. Nó chủ yếu bao gồm cơ thể lò, hệ thống sưởi, cơ chế truyền tải, hệ thống đo lường và thu thập chân không, hệ t......

Lớp phủ carbon giống như thủy tinh là gì

Semicorex cung cấp cảm giác cách nhiệt chất lượng cao và lớp phủ carbon giống như thủy tinh.

Bánh xốp giả là gì?

Trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, các tấm bán dẫn tạo thành nền tảng của quá trình sản xuất chip. Trong số này, một loại wafer đặc biệt, được gọi là Dummy Wafer, đóng vai trò then chốt trong việc đảm bảo sự ổn định của thiết bị và kiểm soát chi phí sản xuất.

Vật liệu cacbon xốp phân cấp: Tổng hợp và giới thiệu

Tổng hợp bột cacbua silic có độ tinh khiết cao

Bột cacbua silic có độ tinh khiết cao có các đặc tính vùng cấm rộng đặc biệt, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng để sản xuất các thiết bị điện tử công suất cao, tần số cao.

Quy trình PECVD

Lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma (PECVD) là một công nghệ được sử dụng rộng rãi trong sản xuất chip. Nó sử dụng động năng của các electron trong plasma để kích hoạt các phản ứng hóa học trong pha khí, nhờ đó đạt được sự lắng đọng màng mỏng.