Semicorex RTP SiC Coating Carrier mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội và độ đồng đều nhiệt, khiến nó trở thành giải pháp hoàn hảo cho các ứng dụng xử lý tấm bán dẫn. Với than chì phủ SiC chất lượng cao, sản phẩm này được thiết kế để chịu được môi trường lắng đọng khắc nghiệt nhất cho sự phát triển epiticular. Độ dẫn nhiệt cao và đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời đảm bảo hiệu suất đáng tin cậy cho RTA, RTP hoặc làm sạch bằng hóa chất khắc nghiệt.
Chất mang lớp phủ RTP SiC của chúng tôi được thiết kế để chịu được các điều kiện khắc nghiệt nhất của môi trường lắng đọng. Với khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao, các chất nhạy cảm với epit Wax phải chịu môi trường lắng đọng hoàn hảo cho sự phát triển của epitaxy. Lớp phủ tinh thể SiC mịn trên chất mang đảm bảo bề mặt mịn và độ bền cao trước khả năng làm sạch bằng hóa chất, đồng thời vật liệu được thiết kế để ngăn ngừa nứt và tách lớp.
Tại Semicorex, chúng tôi tập trung vào việc cung cấp chất mang lớp phủ RTP SiC chất lượng cao, tiết kiệm chi phí, chúng tôi ưu tiên sự hài lòng của khách hàng và cung cấp các giải pháp tiết kiệm chi phí. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn, cung cấp các sản phẩm chất lượng cao và dịch vụ khách hàng đặc biệt.
Liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về Nhà cung cấp lớp phủ RTP SiC của chúng tôi.
Các thông số của chất mang lớp phủ RTP SiC
Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC |
||
Thuộc tính SiC-CVD |
||
Cấu trúc tinh thể |
Giai đoạn FCC |
|
Tỉ trọng |
g/cm³ |
3.21 |
độ cứng |
Độ cứng Vickers |
2500 |
Kích thước hạt |
mm |
2~10 |
Độ tinh khiết hóa học |
% |
99.99995 |
Công suất nhiệt |
J kg-1 K-1 |
640 |
Nhiệt độ thăng hoa |
℃ |
2700 |
Sức mạnh cảm giác |
MPa (RT 4 điểm) |
415 |
Mô đun của Young |
Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) |
430 |
Giãn nở nhiệt (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Độ dẫn nhiệt |
(W/mK) |
300 |
Các tính năng của chất mang lớp phủ RTP SiC
Than chì phủ SiC có độ tinh khiết cao
Khả năng chịu nhiệt vượt trội và độ đồng đều nhiệt
Được phủ tinh thể SiC mịn cho bề mặt mịn
Độ bền cao chống lại việc làm sạch bằng hóa chất
Vật liệu được thiết kế sao cho không xảy ra hiện tượng nứt và tách lớp.