Các sản phẩm

Mái chèo đúc hẫng bằng gốm Semicorex SiC là bộ phận hiệu suất cao được thiết kế cho các lò xử lý nhiệt được sử dụng trong các lĩnh vực như sản xuất chất bán dẫn và tế bào quang điện. Semicorex lựa chọn cẩn thận các vật liệu cacbua silic có độ tinh khiết cao và sử dụng các quy trình sản xuất chính xác hàng đầu trong ngành, mong muốn bạn mua hàng với các sản phẩm và dịch vụ chất lượng cao của chúng tôi.

Thuyền SiC sử dụng PV của Semicorex là thùng chứa chịu nhiệt độ cao, đặc biệt được sử dụng để giữ và vận chuyển các tấm silicon trong suốt quá trình sản xuất tế bào quang điện. Semicorex, sự lựa chọn lý tưởng của bạn.

Mái chèo gốm Semicorex SiC là thành phần đúc hẫng có độ tinh khiết cao được thiết kế cho lò nung nhiệt độ cao bán dẫn, chủ yếu được sử dụng trong quá trình oxy hóa và khuếch tán. Chọn Semicorex có nghĩa là có được quyền truy cập vào các giải pháp gốm tiên tiến đảm bảo độ ổn định, độ sạch và độ bền vượt trội cho các ứng dụng xử lý wafer quan trọng.*

Đầu vòi hoa sen Semicorex CVD SiC là thành phần được thiết kế chính xác, có độ tinh khiết cao, được thiết kế cho các hệ thống khắc CCP và ICP trong sản xuất chất bán dẫn tiên tiến. Chọn Semicorex có nghĩa là đạt được các giải pháp đáng tin cậy với độ tinh khiết vật liệu vượt trội, độ chính xác gia công và độ bền cho các quy trình plasma đòi hỏi khắt khe nhất.*

Các bộ phận Halfmoon được phủ Semicorex SiC là các bộ phận được chế tạo chính xác được thiết kế như các thành phần thiết yếu của thiết bị epiticular, trong đó hai phần hình bán nguyệt kết hợp với nhau để tạo thành một cụm lõi hoàn chỉnh. Chọn Semicorex có nghĩa là đảm bảo các giải pháp đáng tin cậy, có độ tinh khiết cao và bền bỉ nhằm đảm bảo hỗ trợ tấm bán dẫn ổn định và dẫn nhiệt hiệu quả cho hoạt động sản xuất chất bán dẫn tiên tiến.*

Semicorex SiC Heat Filament là một lò sưởi than chì được phủ silicon cacbua được thiết kế để gia nhiệt wafer trong sản xuất chất bán dẫn tiên tiến. Chọn Semicorex có nghĩa là chọn một đối tác đáng tin cậy cung cấp vật liệu có độ tinh khiết cao, tùy chỉnh chính xác và hiệu suất lâu dài cho các quy trình nhiệt đòi hỏi khắt khe nhất.*