Đầu vòi hoa sen CVD SiC

Đầu vòi hoa sen Semicorex CVD SiC được sử dụng để khắc CCP. Thợ khắc CCP sử dụng hai điện cực song song (một nối đất, một nối với nguồn điện RF) để tạo ra plasma. Plasma được duy trì giữa hai điện cực bằng điện trường giữa chúng. Các điện cực và tấm phân phối khí được tích hợp thành một bộ phận duy nhất. Khí khắc được phun đồng đều lên bề mặt wafer thông qua các lỗ nhỏ trên đầu vòi hoa sen CVD SiC. Đồng thời, một điện áp RF được đặt vào đầu vòi hoa sen (cũng là điện cực trên). Điện áp này tạo ra một điện trường giữa các điện cực trên và dưới, kích thích khí tạo thành plasma. Thiết kế này mang lại cấu trúc đơn giản và nhỏ gọn hơn trong khi vẫn đảm bảo phân bố đồng đều các phân tử khí và điện trường đồng đều, cho phép khắc đồng đều các tấm wafer lớn.

Đầu vòi hoa sen CVD SiC cũng có thể được ứng dụng trong khắc ICP. Máy khắc ICP sử dụng cuộn dây cảm ứng (thường là điện từ) để tạo ra từ trường RF, tạo ra dòng điện và plasma. Đầu vòi hoa sen CVD SiC, như một bộ phận riêng biệt, chịu trách nhiệm phân phối đều khí ăn mòn vào vùng plasma.

Đầu vòi hoa sen CVD SiC là thành phần được sản xuất chính xác và có độ tinh khiết cao dành cho thiết bị xử lý chất bán dẫn, là thành phần cơ bản cho khả năng phân phối khí và điện cực. Bằng cách sử dụng quy trình sản xuất lắng đọng hơi hóa học (CVD), đầu vòi hoa sen đạt được ngoại lệ

Độ tinh khiết của vật liệu và khả năng kiểm soát kích thước vượt trội đáp ứng các yêu cầu khắt khe của hoạt động sản xuất chất bán dẫn trong tương lai.