Đầu phun silicon

Đầu phun Silicon Semicorex là thành phần có độ tinh khiết cực cao được thiết kế để phân phối khí chính xác trong các hệ thống lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp (LPCVD) để lắng đọng polysilicon và màng mỏng. Được xây dựng từ 9N (99.9999999%)silicon có độ tinh khiết cao, kim phun dạng ống mịn này mang lại độ sạch vượt trội, khả năng tương thích với hóa chất và độ ổn định nhiệt trong điều kiện quy trình khắc nghiệt.

Khi hoạt động sản xuất chất bán dẫn tiếp tục phát triển lên mức độ tích hợp cao hơn và kiểm soát ô nhiễm chặt chẽ hơn, mọi bộ phận phân phối khí trong buồng lắng đọng cũng sẽ được yêu cầu phải đáp ứng các tiêu chuẩn cao hơn trước. Đầu phun Silicon Semicorex đã được phát triển đặc biệt cho các loại yêu cầu này—cung cấp vật liệu khí một cách ổn định và đồng nhất trong toàn bộ buồng phản ứng mà không gây ô nhiễm có thể ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng màng hoặc hiệu suất bán bán dẫn.

Bộ phun được sản xuất từ ​​silicon đơn tinh thể hoặc đa tinh thể tùy thuộc vào yêu cầu của quy trình và vật liệu được thiết kế để có hàm lượng tạp chất kim loại, hạt và ion thấp. Điều này mang lại khả năng tương thích với các điều kiện LPCVD siêu sạch, trong đó ngay cả tạp chất dạng vết cũng có thể gây ra khiếm khuyết trên màng hoặc lỗi thiết bị. Việc sử dụng silicon làm vật liệu cơ bản cũng làm giảm sự không khớp vật liệu giữa bộ phun và các thành phần silicon của buồng, giúp giảm đáng kể rủi ro tạo hạt hoặc phản ứng hóa học trong quá trình sử dụng và vận hành ở nhiệt độ cao.

Cấu trúc hình ống chuyên dụng của Đầu phun Silicon cho phép phân phối khí được kiểm soát và đồng đều trên tải wafer đồng đều. Các lỗ được thiết kế vi mô và bề mặt bên trong nhẵn đảm bảo tốc độ dòng chảy có thể lặp lại cùng với động lực học của khí tầng rất quan trọng để có độ dày màng ổn định và tốc độ lắng đọng ổn định trong lò. Cho dù đó là silane (SiH₄), dichlorosilane (SiH₂Cl₂) hay các loại khí phản ứng khác, bộ phun đều mang lại hiệu suất đáng tin cậy và độ chính xác cần thiết để phát triển màng polysilicon chất lượng tốt.

Do độ ổn định nhiệt tuyệt vời, Đầu phun Silicon Semicorex có thể chịu được nhiệt độ lên tới 1250 ° C và có thể được kiểm soát mà không sợ bị biến dạng, nứt hoặc cong vênh trong nhiều chu kỳ LPCVD nhiệt độ cao. Ngoài ra, khả năng chống oxy hóa và trơ hóa học cao của nó mang lại khả năng hoạt động lâu dài trong môi trường oxy hóa, khử hoặc ăn mòn đồng thời giảm thiểu việc bảo trì và tạo ra sự ổn định của quy trình.

Bộ phun được sản xuất từ ​​silicon đơn tinh thể hoặc đa tinh thể tùy thuộc vào yêu cầu của quy trình và vật liệu được thiết kế để có hàm lượng tạp chất kim loại, hạt và ion thấp. Điều này mang lại khả năng tương thích với các điều kiện LPCVD siêu sạch, trong đó ngay cả tạp chất dạng vết cũng có thể gây ra khiếm khuyết trên màng hoặc lỗi thiết bị. Việc sử dụng silicon làm vật liệu cơ bản cũng làm giảm sự không khớp vật liệu giữa bộ phun và các thành phần silicon của buồng, giúp giảm đáng kể rủi ro tạo hạt hoặc phản ứng hóa học trong quá trình sử dụng và vận hành ở nhiệt độ cao.

Semicorex sản xuất Đầu phun Silicon đặt riêng, có sẵn với chiều dài, đường kính và cấu hình vòi phun tùy chỉnh. Các giải pháp phù hợp có thể được phát triển để nâng cao mô hình phân tán khí cho hình dạng lò phản ứng dùng một lần hoặc công thức lắng đọng. Mỗi Đầu phun đều được kiểm tra và xác minh độ tinh khiết để mang lại mức chất bán dẫn cao nhấtthành phần silicon.

Semicorex Silicon Injector cung cấp độ chính xác và độ tinh khiết cần thiết trong sản xuất chất bán dẫn ngày nay. Việc kết hợp silicon có độ tinh khiết cực cao 9N, độ chính xác gia công ở mức micron và độ ổn định nhiệt và hóa học cao giúp phân phối khí đồng đều, tạo hạt thấp hơn và độ tin cậy đặc biệt khi lắng đọng polysilicon LPCVD.