Chất nhạy cảm epit Wax silicon

Bạn có thể yên tâm mua Chất nhạy cảm Epit Wax Silicon từ nhà máy của chúng tôi. Chất nhạy cảm Epitaxy Silicon của Semicorex là sản phẩm chất lượng cao, có độ tinh khiết cao được sử dụng trong ngành bán dẫn để tăng trưởng epiticular của chip wafer. Sản phẩm của chúng tôi có công nghệ phủ vượt trội đảm bảo lớp phủ hiện diện trên mọi bề mặt, ngăn ngừa hiện tượng bong tróc. Sản phẩm ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C nên thích hợp sử dụng trong môi trường khắc nghiệt.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Chất nhạy cảm epit Wax silicon của chúng tôi được tạo ra bằng cách lắng đọng hơi hóa học CVD trong điều kiện khử trùng bằng clo ở nhiệt độ cao, đảm bảo độ tinh khiết cao. Bề mặt của sản phẩm dày đặc, có các hạt mịn và độ cứng cao nên có khả năng chống ăn mòn với axit, kiềm, muối và thuốc thử hữu cơ.
Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế để đạt được mô hình dòng khí tốt nhất, đảm bảo sự đồng đều của biên dạng nhiệt. Các chất nhạy cảm với epitaxy silicon của chúng tôi ngăn chặn bất kỳ sự nhiễm bẩn hoặc khuếch tán tạp chất nào trong quá trình tăng trưởng epiticular, đảm bảo kết quả chất lượng cao.
Tại Semicorex, chúng tôi tập trung vào việc cung cấp các sản phẩm chất lượng cao, tiết kiệm chi phí cho khách hàng. Các chất nhạy cảm với epit Wax silicon của chúng tôi có lợi thế về giá và được xuất khẩu sang nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn, cung cấp các sản phẩm chất lượng ổn định và dịch vụ khách hàng đặc biệt.

Các thông số của chất nhạy cảm với Epit Wax Silicon

Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC
Thuộc tính SiC-CVD
Cấu trúc tinh thể	Giai đoạn FCC
Tỉ trọng	g/cm³	3.21
độ cứng	Độ cứng Vickers	2500
Kích thước hạt	mm	2~10
Độ tinh khiết hóa học	%	99.99995
Công suất nhiệt	J kg-1 K-1	640
Nhiệt độ thăng hoa	℃	2700
Sức mạnh cảm giác	MPa (RT 4 điểm)	415
Mô đun của Young	Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC)	430
Giãn nở nhiệt (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Độ dẫn nhiệt	(W/mK)	300

Các thông số của chất nhạy cảm với Epit Wax Silicon

- Tránh bong tróc và đảm bảo phủ đều trên mọi bề mặt
Khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao: Ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C
Độ tinh khiết cao: được tạo ra bằng cách lắng đọng hơi hóa học CVD trong điều kiện clo hóa ở nhiệt độ cao.
Chống ăn mòn: độ cứng cao, bề mặt dày đặc và các hạt mịn.
Chống ăn mòn: axit, kiềm, muối và thuốc thử hữu cơ.
- Đạt được mô hình dòng khí tầng tốt nhất
- Đảm bảo độ đồng đều của profile nhiệt
- Ngăn chặn mọi sự ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất