Lớp phủ SiC là một lớp mỏng trên chất nhạy cảm thông qua quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD). Vật liệu cacbua silic mang lại một số lợi thế so với silicon, bao gồm cường độ điện trường đánh thủng gấp 10 lần, khoảng cách dải gấp 3 lần, giúp vật liệu có khả năng chịu nhiệt độ và hóa chất cao, chống mài mòn cũng như tính dẫn nhiệt tuyệt vời.
Semicorex cung cấp dịch vụ tùy chỉnh, giúp bạn đổi mới với các thành phần có tuổi thọ cao hơn, giảm thời gian chu trình và cải thiện năng suất.
Lớp phủ SiC sở hữu một số ưu điểm độc đáo
Khả năng chịu nhiệt độ cao: Chất nhạy cảm được phủ CVD SiC có thể chịu được nhiệt độ cao lên tới 1600°C mà không bị suy giảm nhiệt đáng kể.
Kháng hóa chất: Lớp phủ silicon cacbua mang lại khả năng chống chịu tuyệt vời với nhiều loại hóa chất, bao gồm axit, kiềm và dung môi hữu cơ.
Chống mài mòn: Lớp phủ SiC mang lại cho vật liệu khả năng chống mài mòn tuyệt vời, khiến nó phù hợp cho các ứng dụng có độ mài mòn cao.
Độ dẫn nhiệt: Lớp phủ CVD SiC mang lại cho vật liệu khả năng dẫn nhiệt cao, khiến nó phù hợp để sử dụng trong các ứng dụng nhiệt độ cao yêu cầu truyền nhiệt hiệu quả.
Độ bền và độ cứng cao: Chất nhạy cảm được phủ silicon cacbua mang lại cho vật liệu độ bền và độ cứng cao, khiến vật liệu phù hợp cho các ứng dụng đòi hỏi độ bền cơ học cao.
Lớp phủ SiC được sử dụng trong nhiều ứng dụng khác nhau
Sản xuất đèn LED: Chất nhạy được phủ CVD SiC được sử dụng trong sản xuất các loại đèn LED khác nhau, bao gồm đèn LED xanh dương và xanh lục, đèn LED UV và đèn LED UV sâu, do tính dẫn nhiệt và kháng hóa chất cao.
Truyền thông di động: Chất nhạy được phủ CVD SiC là một phần quan trọng của HEMT để hoàn thành quy trình epiticular GaN-on-SiC.
Xử lý chất bán dẫn: Chất nhạy được phủ CVD SiC được sử dụng trong ngành bán dẫn cho các ứng dụng khác nhau, bao gồm xử lý tấm bán dẫn và tăng trưởng epiticular.
Linh kiện than chì phủ SiC
Được chế tạo bằng than chì Silicon Carbide Coating (SiC), lớp phủ được áp dụng bằng phương pháp CVD cho các loại than chì mật độ cao cụ thể, do đó nó có thể hoạt động trong lò nhiệt độ cao với hơn 3000 ° C trong môi trường trơ, 2200 ° C trong chân không .
Các đặc tính đặc biệt và khối lượng thấp của vật liệu cho phép tốc độ gia nhiệt nhanh, phân bố nhiệt độ đồng đều và độ chính xác vượt trội trong kiểm soát.
Dữ liệu vật liệu của lớp phủ Semicorex SiC
Tính chất điển hình |
Đơn vị |
Giá trị |
Kết cấu |
|
Giai đoạn FCC |
Định hướng |
Phân số (%) |
111 ưu tiên |
Mật độ lớn |
g/cm³ |
3.21 |
độ cứng |
Độ cứng Vickers |
2500 |
Công suất nhiệt |
J kg-1 K-1 |
640 |
Giãn nở nhiệt 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Mô đun của Young |
Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) |
430 |
Kích thước hạt |
mm |
2~10 |
Nhiệt độ thăng hoa |
℃ |
2700 |
Sức mạnh cảm giác |
MPa (RT 4 điểm) |
415 |
Độ dẫn nhiệt |
(W/mK) |
300 |
Kết luận Chất cảm ứng được phủ CVD SiC là vật liệu tổng hợp kết hợp các đặc tính của chất cảm ứng và cacbua silic. Vật liệu này sở hữu các đặc tính độc đáo, bao gồm khả năng chịu nhiệt độ và hóa chất cao, chống mài mòn tuyệt vời, độ dẫn nhiệt cao, độ bền và độ cứng cao. Những đặc tính này làm cho nó trở thành vật liệu hấp dẫn cho nhiều ứng dụng nhiệt độ cao khác nhau, bao gồm xử lý chất bán dẫn, xử lý hóa học, xử lý nhiệt, sản xuất pin mặt trời và sản xuất đèn LED.
Hệ thống lò phản ứng Epit Wax pha lỏng (LPE) Semicorex là một sản phẩm cải tiến mang lại hiệu suất nhiệt tuyệt vời, cấu hình nhiệt đều và độ bám dính lớp phủ vượt trội. Độ tinh khiết cao, khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao và khả năng chống ăn mòn khiến nó trở thành lựa chọn lý tưởng để sử dụng trong ngành bán dẫn. Các tùy chọn tùy chỉnh và hiệu quả về chi phí khiến nó trở thành một sản phẩm có tính cạnh tranh cao trên thị trường.
Đọc thêmGửi yêu cầuSự lắng đọng epiticular Semicorex CVD trong lò phản ứng thùng là một sản phẩm có độ bền cao và đáng tin cậy để phát triển các lớp epixial trên chip wafer. Khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao và độ tinh khiết cao khiến nó phù hợp để sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn. Cấu hình nhiệt đều, mô hình dòng khí tầng và khả năng ngăn ngừa ô nhiễm khiến nó trở thành lựa chọn lý tưởng để phát triển lớp epixial chất lượng cao.
Đọc thêmGửi yêu cầuNếu bạn cần chất nhạy cảm than chì hiệu suất cao để sử dụng trong các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn thì Semicorex Silicon Epitaxy Deposition In Barrel Reactor là lựa chọn lý tưởng. Lớp phủ SiC có độ tinh khiết cao và tính dẫn nhiệt đặc biệt của nó mang lại đặc tính bảo vệ và phân phối nhiệt vượt trội, khiến nó trở thành lựa chọn phù hợp để có hiệu suất ổn định và đáng tin cậy ngay cả trong những môi trường khó khăn nhất.
Đọc thêmGửi yêu cầuNếu bạn cần một chất nhạy cảm than chì có đặc tính dẫn nhiệt và phân phối nhiệt đặc biệt, thì không cần tìm đâu xa ngoài Hệ thống Epi Thùng gia nhiệt cảm ứng Semicorex. Lớp phủ SiC có độ tinh khiết cao mang lại khả năng bảo vệ vượt trội trong môi trường ăn mòn và nhiệt độ cao, khiến nó trở thành lựa chọn lý tưởng để sử dụng trong các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn.
Đọc thêmGửi yêu cầuVới đặc tính dẫn nhiệt và phân phối nhiệt đặc biệt, Cấu trúc thùng Semicorex cho Lò phản ứng epiticular bán dẫn là sự lựa chọn hoàn hảo để sử dụng trong các quy trình LPE và các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn khác. Lớp phủ SiC có độ tinh khiết cao mang lại khả năng bảo vệ vượt trội trong môi trường ăn mòn và nhiệt độ cao.
Đọc thêmGửi yêu cầuNếu bạn đang tìm kiếm chất nhạy cảm than chì hiệu suất cao để sử dụng trong các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn thì Chất nhạy cảm thùng than chì phủ Semicorex SiC là lựa chọn lý tưởng. Đặc tính dẫn nhiệt và phân phối nhiệt đặc biệt của nó khiến nó trở thành lựa chọn phù hợp để có hiệu suất ổn định và đáng tin cậy trong môi trường nhiệt độ cao và ăn mòn.
Đọc thêmGửi yêu cầu