Các chất nhạy cảm MOCVD than chì được phủ SiC là thành phần thiết yếu được sử dụng trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD), có nhiệm vụ giữ và làm nóng các chất nền wafer. Với khả năng quản lý nhiệt, kháng hóa chất và ổn định kích thước vượt trội, các chất nhạy cảm MOCVD than chì được phủ SiC được coi là lựa chọn tối ưu cho quá trình epit Wafer chất nền wafer chất lượng cao.
Chất nhạy cảm MOCVD than chì phủ SiClà những thành phần thiết yếu được sử dụng trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD), có nhiệm vụ giữ và làm nóng các chất nền wafer. Với khả năng quản lý nhiệt, kháng hóa chất và ổn định kích thước vượt trội, các chất nhạy cảm MOCVD than chì được phủ SiC được coi là lựa chọn tối ưu cho quá trình epit Wafer chất nền wafer chất lượng cao.
Trong chế tạo wafer,MOCVDCông nghệ được sử dụng để xây dựng các lớp epiticular trên bề mặt đế wafer, chuẩn bị cho việc chế tạo các thiết bị bán dẫn tiên tiến. Do sự phát triển của các lớp epiticular bị ảnh hưởng bởi nhiều yếu tố nên chất nền wafer không thể được đặt trực tiếp vào thiết bị MOCVD để lắng đọng. Cần có các chất nhạy cảm MOCVD than chì được phủ SiC để giữ và làm nóng các chất nền wafer, tạo điều kiện nhiệt ổn định cho sự phát triển của các lớp epiticular. Do đó, hiệu suất của chất nhạy cảm MOCVD than chì phủ SiC quyết định trực tiếp đến tính đồng nhất và độ tinh khiết của vật liệu màng mỏng, từ đó ảnh hưởng đến việc sản xuất các thiết bị bán dẫn tiên tiến.
Semicorex chọnthan chì có độ tinh khiết caolàm vật liệu nền cho các chất nhạy cảm MOCVD than chì được phủ SiC của nó và sau đó phủ đồng đều ma trận than chì bằngcacbua silicphủ bằng công nghệ CVD. So với công nghệ thông thường, công nghệ CVD cải thiện đáng kể độ bền liên kết giữa lớp phủ cacbua silic và ma trận than chì, tạo ra lớp phủ dày đặc hơn với độ bám dính mạnh hơn. Ngay cả trong môi trường ăn mòn ở nhiệt độ cao đòi hỏi khắt khe, lớp phủ cacbua silic vẫn duy trì tính toàn vẹn về cấu trúc và độ ổn định hóa học trong thời gian dài, ngăn chặn hiệu quả sự tiếp xúc trực tiếp giữa khí ăn mòn và ma trận than chì. Điều này giúp tránh sự ăn mòn của ma trận than chì một cách hiệu quả và ngăn các hạt than chì tách ra và làm nhiễm bẩn chất nền wafer và các lớp epitaxy, đảm bảo độ sạch và năng suất của quá trình chế tạo thiết bị bán dẫn.
Ưu điểm của chất nhạy cảm MOCVD than chì phủ SiC của Semicorex
1. Khả năng chống ăn mòn tuyệt vời
2. Độ dẫn nhiệt cao
3. Độ ổn định nhiệt vượt trội
4. Hệ số giãn nở nhiệt thấp
5. Khả năng chống sốc nhiệt vượt trội
6. Độ mịn bề mặt cao
7. Tuổi thọ lâu dài