> Các sản phẩm

Các sản phẩm

Sản phẩm mới

View as

Đầu thu đĩa SiC

Semicorex giới thiệu Bộ cảm biến đĩa SiC, được thiết kế để nâng cao hiệu suất của thiết bị Epitaxy, Lắng đọng hơi hóa chất hữu cơ kim loại (MOCVD) và Xử lý nhiệt nhanh (RTP). Bộ cảm biến đĩa SiC được thiết kế tỉ mỉ cung cấp các đặc tính đảm bảo hiệu suất, độ bền và hiệu quả vượt trội trong môi trường chân không và nhiệt độ cao.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Trường nhiệt than chì

Trường nhiệt Semicorex Graphite kết hợp khoa học vật liệu tiên tiến với sự hiểu biết sâu sắc về các quá trình phát triển tinh thể, nó mang đến một giải pháp cải tiến giúp ngành công nghiệp bán dẫn đạt được các cấp độ mới về hiệu suất, hiệu quả và tiết kiệm chi phí.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

LPE SiC-Epi Halfmoon

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon là tài sản không thể thiếu trong thế giới epit Wax, cung cấp giải pháp mạnh mẽ cho những thách thức đặt ra bởi nhiệt độ cao, khí phản ứng và các yêu cầu nghiêm ngặt về độ tinh khiết.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Vỏ phủ CVD TaC

Lớp phủ phủ Semicorex CVD TaC đã và đang trở thành một công nghệ quan trọng trong các môi trường đòi hỏi khắt khe trong lò phản ứng epit Wax, đặc trưng bởi nhiệt độ cao, khí phản ứng và các yêu cầu nghiêm ngặt về độ tinh khiết, đòi hỏi phải có vật liệu chắc chắn để đảm bảo sự phát triển tinh thể nhất quán và ngăn ngừa các phản ứng không mong muốn.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Dụng cụ kéo silicon đơn than chì

Dụng cụ kéo silicon đơn Semicorex Graphite nổi lên như những anh hùng vô danh trong lò luyện pha lê rực lửa, nơi nhiệt độ tăng cao và độ chính xác ngự trị tối cao. Những đặc tính vượt trội của chúng, được mài giũa thông qua quá trình sản xuất cải tiến, khiến chúng trở nên cần thiết để tạo ra silicon đơn tinh thể hoàn hảo.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Vòng dẫn hướng lớp phủ TaC

Vòng dẫn hướng lớp phủ Semicorex TaC đóng vai trò là bộ phận quan trọng trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD), đảm bảo phân phối chính xác và ổn định các khí tiền chất trong quá trình tăng trưởng epiticular. Vòng dẫn hướng lớp phủ TaC thể hiện một loạt các đặc tính khiến nó trở nên lý tưởng để chịu được các điều kiện khắc nghiệt có trong buồng lò phản ứng MOCVD.**

Đọc thêm Gửi yêu cầu

<...78 79 80 81 82...144 >