Bạn có thể yên tâm mua ICP Etching Carrier từ nhà máy của chúng tôi và chúng tôi sẽ cung cấp cho bạn dịch vụ sau bán hàng tốt nhất và giao hàng kịp thời. Chất nhạy wafer Semicorex được làm bằng than chì phủ silicon carbide bằng quy trình lắng đọng hơi hóa học (CVD). Vật liệu này sở hữu các đặc tính độc đáo, bao gồm khả năng chịu nhiệt độ cao và hóa chất, khả năng chống mài mòn tuyệt vời, tính dẫn nhiệt cao, độ bền và độ cứng cao. Các đặc tính này làm cho nó trở thành một vật liệu hấp dẫn cho các ứng dụng nhiệt độ cao khác nhau, bao gồm các hệ thống khắc bằng plasma cảm ứng (ICP).
Chúng tôi cung cấp dịch vụ tùy chỉnh, giúp bạn đổi mới với các thành phần tồn tại lâu hơn, giảm thời gian chu kỳ và cải thiện năng suất.
Tấm SiC của Semicorex cho Quy trình khắc ICP là giải pháp hoàn hảo cho các yêu cầu xử lý hóa chất khắc nghiệt và nhiệt độ cao trong lắng đọng màng mỏng và xử lý wafer. Sản phẩm của chúng tôi tự hào về khả năng chịu nhiệt vượt trội và tính đồng nhất về nhiệt, đảm bảo độ dày và độ bền của lớp epi nhất quán. Với bề mặt nhẵn và sạch, lớp phủ tinh thể SiC có độ tinh khiết cao của chúng tôi cung cấp khả năng xử lý tối ưu cho các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex SiC Coated ICP Etching Carrier được thiết kế đặc biệt cho thiết bị epitaxy có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao ở Trung Quốc. Sản phẩm của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và bao phủ nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Đọc thêmGửi yêu cầu