Bạn có thể yên tâm mua ICP Etching Carrier từ nhà máy của chúng tôi và chúng tôi sẽ cung cấp cho bạn dịch vụ sau bán hàng tốt nhất và giao hàng kịp thời. Chất nhạy wafer Semicorex được làm bằng than chì phủ silicon carbide bằng quy trình lắng đọng hơi hóa học (CVD). Vật liệu này sở hữu các đặc tính độc đáo, bao gồm khả năng chịu nhiệt độ cao và hóa chất, khả năng chống mài mòn tuyệt vời, tính dẫn nhiệt cao, độ bền và độ cứng cao. Các đặc tính này làm cho nó trở thành một vật liệu hấp dẫn cho các ứng dụng nhiệt độ cao khác nhau, bao gồm các hệ thống khắc bằng plasma cảm ứng (ICP).
Chúng tôi cung cấp dịch vụ tùy chỉnh, giúp bạn đổi mới với các thành phần tồn tại lâu hơn, giảm thời gian chu kỳ và cải thiện năng suất.
ICP Etching Carrier Plate của Semicorex là giải pháp hoàn hảo cho các quy trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi cung cấp khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội, thậm chí là tính đồng nhất về nhiệt và các kiểu dòng khí thành tầng. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi rất lý tưởng để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuGiá đỡ lát bán dẫn của Semicorex cho Quy trình khắc ICP là sự lựa chọn hoàn hảo cho các quy trình xử lý lát bán dẫn và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi tự hào về khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội, thậm chí tính đồng nhất về nhiệt và mô hình dòng khí phân lớp tối ưu cho kết quả nhất quán và đáng tin cậy.
Đọc thêmGửi yêu cầuICP Silicon Carbon Coated Graphite của Semicorex là lựa chọn lý tưởng cho các quy trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi tự hào về khả năng chịu nhiệt và chống ăn mòn vượt trội, thậm chí có tính đồng nhất về nhiệt và mô hình dòng khí thành lớp tối ưu.
Đọc thêmGửi yêu cầuChọn Hệ thống khắc plasma ICP của Semicorex cho quy trình PSS để có các quy trình epitaxy và MOCVD chất lượng cao. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế dành riêng cho các quy trình này, mang lại khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm khắc plasma ICP của Semicorex cung cấp khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội cho quá trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế để chịu được nhiệt độ cao và hóa chất tẩy rửa khắc nghiệt, đảm bảo độ bền và tuổi thọ. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuTìm kiếm một nhà cung cấp wafer đáng tin cậy cho các quá trình khắc? Không cần tìm đâu xa hơn Chất mang khắc ICP Silicon carbide của Semicorex. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế để chịu được nhiệt độ cao và hóa chất tẩy rửa khắc nghiệt, đảm bảo độ bền và tuổi thọ. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầu