Chất nhạy cảm thùng tráng CVD SiC

Chất nhạy cảm thùng tráng phủ Semicorex CVD SiC là một thành phần được thiết kế tỉ mỉ được thiết kế riêng cho các quy trình sản xuất chất bán dẫn tiên tiến, đặc biệt là epit Wax. Được chế tạo với độ chính xác và sự đổi mới, Thiết bị cảm ứng thùng phủ CVD SiC này được thiết kế để tạo điều kiện thuận lợi cho sự phát triển đồng trục của vật liệu bán dẫn trên các tấm bán dẫn với hiệu quả và độ tin cậy vô song.

Tại lõi Chất nhạy cảm thùng tráng phủ CVD SiC có cấu trúc than chì chắc chắn, nổi tiếng với tính dẫn nhiệt đặc biệt và độ bền cơ học. Đế than chì này đóng vai trò là nền tảng vững chắc cho chất nhạy cảm, đảm bảo sự ổn định và tuổi thọ trong các điều kiện khắt khe của lò phản ứng epiticular.

Tăng cường chất nền than chì là lớp phủ tiên tiến bằng cacbua silic lắng đọng hơi hóa học (CVD) (SiC). Lớp phủ SiC chuyên dụng này được áp dụng một cách tỉ mỉ thông qua quá trình lắng đọng hơi hóa học, tạo ra một lớp đồng nhất và bền bỉ bao phủ bề mặt than chì. Lớp phủ CVD SiC của Chất nhạy cảm thùng được phủ CVD SiC mang lại vô số lợi thế quan trọng cho quy trình epiticular.

Lớp phủ CVD SiC của Chất cảm ứng thùng được phủ CVD SiC thể hiện các đặc tính nhiệt đặc biệt, bao gồm tính dẫn nhiệt cao và độ ổn định nhiệt. Những đặc tính này là công cụ đảm bảo sự gia nhiệt đồng đều và chính xác của các tấm bán dẫn trong quá trình tăng trưởng epiticular, từ đó thúc đẩy sự lắng đọng lớp nhất quán và giảm thiểu các khuyết tật trong sản phẩm cuối cùng.

Thiết kế hình thùng của Bộ cảm ứng thùng phủ CVD SiC được tối ưu hóa để tải và dỡ tấm bán dẫn hiệu quả, cũng như phân phối nhiệt tối ưu trên bề mặt tấm bán dẫn. Đặc điểm thiết kế này, cùng với hiệu suất vượt trội của lớp phủ CVD SiC, đảm bảo khả năng kiểm soát quy trình và năng suất tuyệt vời trong hoạt động sản xuất epiticular.