Trang chủ > Các sản phẩm > Silicon cacbua tráng > Máy thu thùng > Cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn
Cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn

Cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn

Với đặc tính dẫn nhiệt và phân phối nhiệt đặc biệt, Cấu trúc thùng Semicorex cho Lò phản ứng epiticular bán dẫn là sự lựa chọn hoàn hảo để sử dụng trong các quy trình LPE và các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn khác. Lớp phủ SiC có độ tinh khiết cao mang lại khả năng bảo vệ vượt trội trong môi trường ăn mòn và nhiệt độ cao.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Cấu trúc thùng Semicorex dành cho Lò phản ứng epiticular bán dẫn là lựa chọn phù hợp cho các ứng dụng chất nhạy cảm với than chì hiệu suất cao đòi hỏi khả năng chịu nhiệt và ăn mòn đặc biệt. Lớp phủ SiC có độ tinh khiết cao cùng mật độ và độ dẫn nhiệt vượt trội mang lại đặc tính bảo vệ và phân phối nhiệt vượt trội, đảm bảo hiệu suất ổn định và đáng tin cậy ngay cả trong những môi trường khó khăn nhất.

Cấu trúc thùng dành cho Lò phản ứng epiticular bán dẫn của chúng tôi được thiết kế để đạt được mô hình dòng khí tầng tốt nhất, đảm bảo độ đồng đều của biên dạng nhiệt. Điều này giúp ngăn ngừa bất kỳ sự nhiễm bẩn hoặc khuếch tán tạp chất nào, đảm bảo sự tăng trưởng epiticular chất lượng cao trên chip wafer.

Liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về Cấu trúc thùng cho Lò phản ứng epiticular bán dẫn.


Các thông số cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn

Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC

Thuộc tính SiC-CVD

Cấu trúc tinh thể

Giai đoạn FCC

Tỉ trọng

g/cm³

3.21

độ cứng

Độ cứng Vickers

2500

Kích thước hạt

mm

2~10

Độ tinh khiết hóa học

%

99.99995

Công suất nhiệt

J kg-1 K-1

640

Nhiệt độ thăng hoa

2700

Sức mạnh cảm giác

MPa (RT 4 điểm)

415

Mô đun của Young

Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC)

430

Giãn nở nhiệt (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Độ dẫn nhiệt

(W/mK)

300


Đặc điểm cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn

- Cả chất nền than chì và lớp cacbua silic đều có mật độ tốt và có thể đóng vai trò bảo vệ tốt trong môi trường làm việc ở nhiệt độ cao và ăn mòn.

- Chất nhạy được phủ cacbua silic dùng cho nuôi cấy đơn tinh thể có độ phẳng bề mặt rất cao.

- Giảm sự chênh lệch về hệ số giãn nở nhiệt giữa lớp nền than chì và lớp cacbua silic, cải thiện hiệu quả độ bền liên kết để ngăn ngừa nứt và tách lớp.

- Cả chất nền than chì và lớp cacbua silic đều có tính dẫn nhiệt cao và đặc tính phân bổ nhiệt tuyệt vời.

- Điểm nóng chảy cao, khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao, chống ăn mòn.






Thẻ nóng: Cấu trúc thùng cho lò phản ứng epiticular bán dẫn, Trung Quốc, nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy, tùy chỉnh, số lượng lớn, nâng cao, bền bỉ
Danh mục liên quan
Gửi yêu cầu
Xin vui lòng gửi yêu cầu của bạn trong mẫu dưới đây. Chúng tôi sẽ trả lời bạn trong 24 giờ.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept