Băng wafer SiC

Cassette wafer Semicorex SiC, còn được gọi là thuyền wafer lát gạch, được phát triển đặc biệt cho các hoạt động oxy hóa, khuếch tán và ủ ở nhiệt độ trên 1200°C. Các băng cassette cung cấp sự hỗ trợ cơ học đáng kể cũng như sự liên kết cho nhiều tấm bán dẫn cùng một lúc trong quá trình sử dụng lò nhiệt độ cao và thể hiện sự ổn định về mặt cơ học và kích thước tuyệt vời trong quá trình ứng suất nhiệt và sau đó.  Nhu cầu về vật liệu siêu tinh khiết và ổn định nhiệt cho hệ thống xử lý tấm bán dẫn ngày càng tăng khi các thiết bị bán dẫn giảm kích thước và tăng hiệu suất.

Cassette được làm từ chất liệu có độ tinh khiết caocacbua silic, cũng có những lớp phủ có thể được áp dụng để mang lại lợi ích lớn hơn nữa. SiC có độ ổn định sốc nhiệt, ăn mòn và biến dạng kích thước tuyệt vời.  SiC có độ cứng, độ trơ hóa học và tính dẫn nhiệt độc đáo nên nó là vật liệu lý tưởng cho môi trường xử lý này. SiC, so với các chất thay thế thạch anh và alumina sẽ không làm giảm các tính chất cơ học và hóa học của nó ở nhiệt độ xử lý cao, do đó làm giảm nguy cơ ô nhiễm và cải thiện tính đồng nhất của quy trình wafer trong quá trình sản xuất.

Độ tinh khiết cực cao của băng wafer SiC thể hiện khả năng chống lại các chất gây ô nhiễm kim loại hoặc ion xâm nhập vào buồng xử lý; điều gì đó thực sự cần thiết để có độ tinh khiết cao nhằm đáp ứng các yêu cầu về quy trình cho các quy trình chế tạo chất bán dẫn tiên tiến. Bằng cách giảm thiểu các nguồn gây ô nhiễm, cacbua silic sẽ tăng hiệu suất bán dẫn và độ tin cậy của thiết bị.

Công nghệ gia công chính xác của Semicorex cho phép sản xuất từng băng cassette với dung sai chặt chẽ, bước rãnh đồng đều và căn chỉnh song song. Việc gia công chính xác các vật liệu hỗ trợ việc tải và dỡ tấm bán dẫn trơn tru, giúp giảm nguy cơ trầy xước khi xử lý các tấm bán dẫn. Khoảng cách khe chính xác cho phép nhiệt độ và luồng không khí đồng đều trên tất cả các tấm bán dẫn, giúp thúc đẩy tính đồng nhất trong quá trình oxy hóa và khuếch tán đồng thời giảm sự biến đổi của quy trình.

SiC có độ dẫn nhiệt tuyệt vời, độ ổn định kích thước và mang lại hiệu suất đáng tin cậy trong chu kỳ nhiệt lặp đi lặp lại. Chất liệu ổn định, không bị cong vênh, nứt nẻ; độ cứng cao của nó duy trì tính toàn vẹn của cấu trúc với nhiệt độ cao trong thời gian dài, giảm đáng kể ứng suất cơ học lên các tấm bán dẫn đồng thời hạn chế khả năng tạo ra các hạt không mong muốn khi xử lý do ma sát hoặc rung động vi mô.

Ngoài ra,SiCTính trơ của nó đối với hóa chất bảo vệ các tấm bán dẫn khỏi phản ứng với các khí xử lý (ví dụ: oxy, hydro, amoniac) thường có trong quá trình xử lý. Các băng wafer ổn định trong môi trường oxy hóa và không oxy hóa, đồng thời có thể được tích hợp vào quy trình làm việc của lò qua một số quy trình như oxy hóa, khuếch tán, LPCVD và ủ.

Để đáp ứng các yêu cầu quy trình cụ thể, Semicorex cung cấp các băng wafer SiC tùy chỉnh với nhiều kích cỡ, số lượng khe cắm và cấu hình khác nhau. Mỗi đơn vị đều trải qua quá trình kiểm tra chất lượng và xử lý bề mặt nghiêm ngặt để đảm bảo độ mịn, sạch sẽ và độ chính xác về kích thước. Đánh bóng bề mặt tùy chọn giúp giảm hơn nữa việc tạo hạt và tăng cường khả năng tương thích với các hệ thống xử lý wafer tự động.