Đĩa khắc SiC ICP

Đĩa khắc Semicorex SiC ICP không chỉ đơn thuần là các thành phần; nó là yếu tố cần thiết cho việc sản xuất chất bán dẫn tiên tiến khi ngành công nghiệp bán dẫn tiếp tục theo đuổi không ngừng việc thu nhỏ và hiệu suất, nhu cầu về các vật liệu tiên tiến như SiC sẽ chỉ tăng lên. Nó đảm bảo độ chính xác, độ tin cậy và hiệu suất cần thiết để cung cấp năng lượng cho thế giới định hướng công nghệ của chúng tôi. Tại Semicorex, chúng tôi chuyên sản xuất và cung cấp Đĩa khắc SiC ICP hiệu suất cao, kết hợp chất lượng với hiệu quả chi phí.**

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Việc sử dụng Đĩa khắc ICP Semicorex SiC thể hiện sự đầu tư chiến lược vào việc tối ưu hóa quy trình, độ tin cậy và cuối cùng là hiệu suất thiết bị bán dẫn vượt trội. Những lợi ích là hữu hình:

Nâng cao độ chính xác và tính đồng nhất của quá trình khắc:Độ ổn định kích thước và nhiệt vượt trội của SiC ICP Etching Disk góp phần mang lại tốc độ ăn mòn đồng đều hơn và kiểm soát tính năng chính xác, giảm thiểu sự biến đổi giữa các tấm wafer và cải thiện năng suất thiết bị.

Tuổi thọ đĩa kéo dài:Độ cứng đặc biệt và khả năng chống mài mòn và ăn mòn của Đĩa khắc SiC ICP giúp kéo dài tuổi thọ đĩa hơn đáng kể so với các vật liệu thông thường, giảm chi phí thay thế và thời gian ngừng hoạt động.

Nhẹ để nâng cao hiệu suất:Mặc dù có sức mạnh đặc biệt nhưng Đĩa khắc SiC ICP lại là một vật liệu nhẹ đáng ngạc nhiên. Khối lượng thấp hơn này chuyển thành lực quán tính giảm trong quá trình quay, cho phép chu kỳ tăng tốc và giảm tốc nhanh hơn, giúp cải thiện thông lượng quy trình và hiệu suất thiết bị.

Tăng thông lượng và năng suất:Tính chất nhẹ và khả năng chịu được chu kỳ nhiệt nhanh của SiC ICP Etching Disk góp phần giúp thời gian xử lý nhanh hơn và tăng thông lượng, tối đa hóa việc sử dụng thiết bị và năng suất.

Giảm nguy cơ ô nhiễm:Độ trơ hóa học và khả năng chống ăn mòn plasma của SiC ICP Etching Disk giảm thiểu nguy cơ ô nhiễm hạt, rất quan trọng để duy trì độ tinh khiết của các quy trình bán dẫn nhạy cảm và đảm bảo chất lượng thiết bị.

Ứng dụng phún xạ CVD và chân không:Ngoài khả năng khắc axit, các đặc tính đặc biệt của Đĩa khắc SiC ICP còn khiến nó phù hợp để sử dụng làm chất nền trong quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) và phún xạ chân không, trong đó độ ổn định nhiệt độ cao và độ trơ hóa học là rất cần thiết.