Semicorex là nhà sản xuất và cung cấp quy mô lớn Chất nhạy cảm than chì phủ silicon cacbua tại Trung Quốc. Chúng tôi tập trung vào các ngành công nghiệp bán dẫn như lớp cacbua silic và chất bán dẫn epitaxy. SiC End Effector của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và bao phủ nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Semicorex SiC End Effector được chế tạo bằng than chì Lớp phủ silicon cacbua (SiC), lớp phủ được áp dụng bằng phương pháp CVD cho các loại than chì mật độ cao cụ thể, do đó nó có thể hoạt động trong lò nhiệt độ cao với hơn 3000 °C trong môi trường trơ, 2200°C trong chân không.
SiC End Effector của chúng tôi được thiết kế để đạt được mô hình dòng khí tầng tốt nhất, đảm bảo độ đồng đều của biên dạng nhiệt. Điều này giúp ngăn ngừa bất kỳ sự nhiễm bẩn hoặc khuếch tán tạp chất nào, đảm bảo sự tăng trưởng epiticular chất lượng cao trên chip wafer.
Hãy liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về SiC End Effector của chúng tôi.
Các thông số của SiC End Effector
Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC |
||
Thuộc tính SiC-CVD |
||
Cấu trúc tinh thể |
Giai đoạn FCC |
|
Tỉ trọng |
g/cm³ |
3.21 |
độ cứng |
Độ cứng Vickers |
2500 |
Kích thước hạt |
mm |
2~10 |
Độ tinh khiết hóa học |
% |
99.99995 |
Công suất nhiệt |
J kg-1 K-1 |
640 |
Nhiệt độ thăng hoa |
℃ |
2700 |
Sức mạnh cảm giác |
MPa (RT 4 điểm) |
415 |
Mô đun của Young |
Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) |
430 |
Giãn nở nhiệt (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Độ dẫn nhiệt |
(W/mK) |
300 |
Tính năng của SiC End Effector
- Tránh bong tróc và đảm bảo phủ đều trên mọi bề mặt
Khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao: Ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C
Độ tinh khiết cao: được tạo ra bằng cách lắng đọng hơi hóa học CVD trong điều kiện clo hóa ở nhiệt độ cao.
Chống ăn mòn: độ cứng cao, bề mặt dày đặc và các hạt mịn.
Chống ăn mòn: axit, kiềm, muối và thuốc thử hữu cơ.
- Đạt được mô hình dòng khí tầng tốt nhất
- Đảm bảo độ đồng đều của profile nhiệt
- Ngăn chặn mọi sự ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất