Đĩa wafer được phủ Semicorex SiC thể hiện sự tiến bộ hàng đầu trong công nghệ sản xuất chất bán dẫn, đóng vai trò thiết yếu trong quy trình chế tạo chất bán dẫn phức tạp. Được thiết kế với độ chính xác tỉ mỉ, chiếc đĩa này được chế tạo từ than chì phủ SiC cao cấp, mang lại hiệu suất và độ bền vượt trội cho các ứng dụng epit Wax silicon. Tại Semicorex, chúng tôi chuyên sản xuất và cung cấp Đĩa wafer phủ SiC hiệu suất cao, kết hợp chất lượng với hiệu quả chi phí.
Nền tảng của Đĩa wafer được phủ Semicorex SiC bao gồm than chì chất lượng cao, được phủ một cách chuyên nghiệp bằng SiC lắng đọng hơi hóa học (CVD). Cấu trúc tiên tiến này cung cấp khả năng chống sốc nhiệt và phân hủy hóa học đặc biệt, kéo dài đáng kể tuổi thọ của Đĩa wafer được phủ SiC và đảm bảo hiệu suất đáng tin cậy trong suốt quá trình chế tạo chất bán dẫn.
Đáng chú ý, Đĩa wafer được phủ SiC có khả năng dẫn nhiệt vượt trội, điều này rất quan trọng để tản nhiệt hiệu quả trong quá trình sản xuất chất bán dẫn. Tính năng này giảm thiểu độ dốc nhiệt trên bề mặt tấm bán dẫn, thúc đẩy sự phân bổ nhiệt độ đồng đều cần thiết để đạt được các đặc tính bán dẫn mong muốn.
Lớp phủ SiC cung cấp khả năng bảo vệ chắc chắn chống lại sự ăn mòn hóa học và sốc nhiệt, duy trì tính toàn vẹn của Đĩa wafer được phủ SiC ngay cả trong môi trường xử lý khắc nghiệt. Độ bền được nâng cao này mang lại tuổi thọ hoạt động dài hơn và giảm thời gian ngừng hoạt động, góp phần tăng năng suất và hiệu quả chi phí trong các cơ sở chế tạo chất bán dẫn.
Hơn nữa, Đĩa wafer phủ SiC có thể được điều chỉnh để đáp ứng các yêu cầu và sở thích cụ thể. Chúng tôi cung cấp các tùy chọn tùy chỉnh từ điều chỉnh kích thước đến thay đổi độ dày lớp phủ, cho phép thiết kế linh hoạt giúp tối ưu hóa hiệu suất trên các ứng dụng và thông số quy trình khác nhau.