Trang chủ > Các sản phẩm > Silicon cacbua tráng > Epitaxy SiC > Chất nhạy cảm epiticular được phủ SiC
Chất nhạy cảm epiticular được phủ SiC

Chất nhạy cảm epiticular được phủ SiC

Các chất nhạy cảm epiticular được phủ Semicorex SiC là thành phần thiết yếu được sử dụng trong quá trình tăng trưởng epiticular bán dẫn để hỗ trợ và cố định ổn định các tấm bán dẫn. Tận dụng khả năng sản xuất hoàn thiện và công nghệ sản xuất tiên tiến, Semicorex cam kết cung cấp các thiết bị cảm ứng epiticular phủ SiC có chất lượng dẫn đầu thị trường và có giá cạnh tranh cho các khách hàng quý giá của chúng tôi.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Chất bán dẫnchất nềnkhông thể đặt trực tiếp trên đế trong thiết bị MOCVD hoặc CVD trong quá trình lắng đọng epiticular do tác động của nhiều yếu tố quan trọng, bao gồm hướng dòng khí (ngang và dọc), nhiệt độ, áp suất, cố định chất nền và ô nhiễm hạt. Vì lý do này, các chất nhạy cảm epiticular cần phải được đặt ở trung tâm buồng phản ứng trong hệ thống MOCVD/CVD để hỗ trợ và bảo đảm chất nền bán dẫn, do đó ngăn chặn sự suy giảm chất lượng tăng trưởng epiticular do rung động hoặc dịch chuyển vị trí.


Than chì có độ tinh khiết cao được sử dụng làm vật liệu nền cho SemicorexChất nhạy cảm epiticular được phủ SiC, với lớp phủ cacbua silic được phủ lên bề mặt bằng kỹ thuật CVD tiên tiến. Chất nhạy cảm epiticular được phủ Semicorex SiC là thành phần không thể thiếu trong quá trình hình thành lớp epitaxy. Vai trò chính của chúng là cung cấp môi trường hoạt động ổn định và có thể kiểm soát được cho sự phát triển của các lớp epiticular trên chất nền bán dẫn, do đó có thể đảm bảo tính nhất quán của chất lượng bề mặt wafer.


Đặc điểm của chất nhạy cảm epiticular được phủ Semicorex SiC

1. Khả năng chịu nhiệt độ cao vượt trội để chịu được điều kiện hoạt động 1600oC.

2. Độ dẫn nhiệt cao, mang lại khả năng truyền nhiệt nhanh để duy trì sự phân bố nhiệt độ đồng đều trên chất nền bán dẫn.

3. Khả năng chống ăn mòn hóa học mạnh mẽ để chống lại sự xuống cấp và ăn mòn hóa học, tránh ô nhiễm quá trình của chất nền và lớp epiticular.

4. Khả năng chống sốc nhiệt cao để tránh xảy ra hiện tượng nứt và tách lớp phủ.

5. Độ phẳng bề mặt vượt trội, vừa khít với chất nền giúp giảm thiểu các khoảng trống và khuyết tật.

6. Tuổi thọ dài hơn, giảm thời gian và tổn thất kinh tế do thay thế và bảo trì bộ phận.


Ứng dụng của chất nhạy cảm epiticular được phủ Semicorex SiC

Với nhiều ưu điểm vượt trội, chất nhạy cảm epiticular được phủ Semicorex SiC đóng vai trò then chốt trong việc tạo điều kiện cho sự phát triển đồng đều và có thể kiểm soát của màng mỏng epitaxy và được ứng dụng rộng rãi trong quá trình tăng trưởng epitaxy bán dẫn.

Tăng trưởng epiticular 1.GaN

2.SiC tăng trưởng epiticular

3.Si tăng trưởng epiticular

Thẻ nóng: Chất nhạy cảm epiticular được phủ SiC, Trung Quốc, Nhà sản xuất, Nhà cung cấp, Nhà máy, Tùy chỉnh, Số lượng lớn, Cao cấp, Bền bỉ
Danh mục liên quan
Gửi yêu cầu
Xin vui lòng gửi yêu cầu của bạn trong mẫu dưới đây. Chúng tôi sẽ trả lời bạn trong 24 giờ.
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie. Chính sách bảo mật
Từ chối Chấp nhận