Mái chèo đúc hẫng SiC

Mái chèo công xôn Semicorex SiC (Silicon Carbide) là thành phần quan trọng được sử dụng trong các quy trình sản xuất chất bán dẫn, đặc biệt là trong lò khuếch tán hoặc lò LPCVD (Lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp) trong các quy trình như khuếch tán và RTP (Xử lý nhiệt nhanh). Nó phục vụ mục đích hỗ trợ và vận chuyển các tấm bán dẫn trong ống xử lý của các lò này.

Mái chèo đúc hẫng Semicorex SiC chủ yếu được cấu tạo từ Silicon Carbide, một vật liệu bền và ổn định nhiệt được biết đến với khả năng chịu nhiệt độ cao và các đặc tính cơ học tuyệt vời. SiC được chọn vì khả năng chịu được các điều kiện khắc nghiệt gặp phải trong môi trường xử lý nhiệt độ cao của lò bán dẫn. Thiết kế của Mái chèo đúc hẫng SiC cho phép nó mở rộng vào ống xử lý của lò trong khi được neo chắc chắn ở một đầu bên ngoài ống. Thiết kế này đảm bảo sự ổn định và hỗ trợ cho các tấm wafer đang được xử lý đồng thời giảm thiểu nhiễu với môi trường nhiệt bên trong lò.

Mái chèo SiC Cantilever dùng để mang các tấm bán dẫn một cách an toàn bên trong ống xử lý trong các quá trình nhiệt độ cao khác nhau như khuếch tán và RTP. Cấu trúc chắc chắn của nó đảm bảo rằng nó có thể chịu được nhiệt độ khắc nghiệt và môi trường hóa học gặp phải trong các quá trình này mà không bị xuống cấp hoặc hỏng hóc. Mái chèo SiC Cantilever được thiết kế để tương thích với nhiều kích cỡ và hình dạng tấm bán dẫn thường được sử dụng trong ngành. Chúng thường có thể tùy chỉnh để phù hợp với cấu hình lò và yêu cầu quy trình cụ thể.