Chất mang Semicorex RTP dành cho tăng trưởng epiticular MOCVD là lý tưởng cho các ứng dụng xử lý wafer bán dẫn, bao gồm tăng trưởng epiticular và xử lý xử lý wafer. Các chất nhạy cảm với than chì carbon và nồi nấu kim loại thạch anh được MOCVD xử lý trên bề mặt than chì, gốm sứ, v.v. Sản phẩm của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và bao phủ nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Đọc thêmGửi yêu cầuThành phần ICP phủ SiC của Semicorex được thiết kế đặc biệt cho các quy trình xử lý wafer ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Với lớp phủ tinh thể SiC mịn, các vật mang của chúng tôi mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội, độ đồng đều nhiệt và khả năng kháng hóa chất bền bỉ.
Đọc thêmGửi yêu cầuKhi nói đến các quy trình xử lý tấm bán dẫn như epit Wax và MOCVD, Lớp phủ SiC nhiệt độ cao cho buồng khắc plasma của Semicorex là lựa chọn hàng đầu. Các giá đỡ của chúng tôi cung cấp khả năng chịu nhiệt vượt trội, thậm chí có độ đồng đều nhiệt và khả năng kháng hóa chất bền bỉ nhờ lớp phủ tinh thể SiC mịn của chúng tôi.
Đọc thêmGửi yêu cầuKhay khắc plasma ICP của Semicorex được thiết kế đặc biệt cho các quy trình xử lý tấm bán dẫn ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Với khả năng chống oxy hóa ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C, các vật mang của chúng tôi cung cấp các cấu hình nhiệt đồng đều, mô hình dòng khí tầng và ngăn ngừa ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất.
Đọc thêmGửi yêu cầuChất mang phủ SiC của Semicorex dành cho Hệ thống khắc plasma ICP là giải pháp đáng tin cậy và tiết kiệm chi phí cho các quy trình xử lý tấm bán dẫn ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Các giá đỡ của chúng tôi có lớp phủ tinh thể SiC mịn mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội, độ đồng đều nhiệt và khả năng kháng hóa chất bền bỉ.
Đọc thêmGửi yêu cầuChất nhạy được phủ cacbua silic của Semicorex dành cho Plasma kết hợp cảm ứng (ICP) được thiết kế đặc biệt cho các quy trình xử lý tấm bán dẫn ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Với khả năng chống oxy hóa ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C, các vật mang của chúng tôi đảm bảo cấu hình nhiệt đồng đều, mô hình dòng khí tầng và ngăn ngừa ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất.
Đọc thêmGửi yêu cầu