Ống lò cho LPCVD

Quá trình LPCVD là quá trình lắng đọng màng mỏng được thực hiện trong điều kiện chân không áp suất thấp (thường từ 0,1 đến 1 Torr). Các điều kiện vận hành chân không áp suất thấp này có thể giúp thúc đẩy sự khuếch tán đồng đều của các khí tiền chất trên bề mặt wafer, khiến nó trở nên lý tưởng cho việc lắng đọng chính xác các vật liệu bao gồm Si₃N₄, poly-Si, SiO₂, PSG và một số màng kim loại nhất định như vonfram.

Ống lòlà các thành phần thiết yếu cho LPCVD, đóng vai trò là buồng tạo ổn định để xử lý tấm wafer LPCVD và góp phần mang lại tính đồng nhất màng vượt trội, độ bao phủ bước đặc biệt và chất lượng màng cao của tấm bán dẫn.

Ưu điểm của ống lò Semicorex cho LPCVD

1. Hiệu suất niêm phong đáng tin cậy

Ống lò Semicorex cho LPCVD được sản xuất bằng công nghệ in 3D, có cấu trúc liền mạch, liền mạch. Cấu trúc tích hợp không có điểm yếu này giúp tránh các mối nối và rủi ro rò rỉ liên quan đến quá trình hàn hoặc lắp ráp truyền thống, đảm bảo quá trình bịt kín tốt hơn.  Ống lò Semicorex dành cho LPCVD đặc biệt thích hợp cho các quy trình LPCVD áp suất thấp, nhiệt độ cao, có thể tránh đáng kể sự rò rỉ khí trong quy trình và sự xâm nhập của không khí bên ngoài.

2. Tính chất nhiệt tuyệt vời

Được sản xuất từ ​​​​nguyên liệu thô cấp bán dẫn chất lượng cao, ống lò Semicorex dành cho LPCVD có tính dẫn nhiệt cao và khả năng chống sốc nhiệt tuyệt vời. Những đặc tính nhiệt vượt trội này giúp cho ống lò Semicorex dành cho LPCVD hoạt động ổn định ở nhiệt độ từ 600 đến 1100°C và mang lại sự phân bổ nhiệt độ đồng đều cho quá trình xử lý nhiệt wafer chất lượng cao.

3. Kiểm soát độ sạch nghiêm ngặt

Semicorex kiểm soát độ sạch của ống lò ngay từ khâu lựa chọn vật liệu. Việc sử dụng nguyên liệu thô có độ tinh khiết cao mang lại cho ống lò Semicorex dành cho LPCVD hàm lượng tạp chất thấp chưa từng có. Mức tạp chất của vật liệu nền được kiểm soát dưới 100 PPM và vật liệu phủ CVD SiC được giữ ở mức dưới 1 PPM. Ngoài ra, mỗi ống lò đều trải qua quá trình kiểm tra độ sạch nghiêm ngặt trước khi giao hàng để ngăn ngừa ô nhiễm tạp chất trong quá trình LPCVD.

4. Bảo vệ lớp phủ đồng nhất và dày đặc

Thông qua quá trình lắng đọng hơi hóa học, các ống lò Semicorex dành cho LPCVD được phủ chắc chắn bằng lớp phủ SiC dày đặc và đồng nhất. Những cái nàyLớp phủ CVD SiCthể hiện độ bám dính mạnh mẽ, giúp ngăn ngừa hiệu quả nguy cơ bong tróc lớp phủ và xuống cấp thành phần ngay cả khi tiếp xúc với điều kiện ăn mòn và nhiệt độ cao khắc nghiệt.