Trang chủ > Các sản phẩm > CVD sic > Vòng lấy nét CVD SiC cho 2L10-506419-21
Vòng lấy nét CVD SiC cho 2L10-506419-21

Vòng lấy nét CVD SiC cho 2L10-506419-21

Được làm từ vật liệu CVD SiC hiệu suất cao, vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 là bộ phận vòng quan trọng được thiết kế đặc biệt cho thiết bị TEL VIGUS RK4 dùng trong quy trình khắc chất bán dẫn chính xác. Chọn Semicorex có nghĩa là bạn sẽ có được các giải pháp CVD SiC lý tưởng để đạt được kết quả khắc chính xác và đồng đều.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Trong quá trình ăn mòn plasma, sự phân bố plasma không đồng đều trong buồng phản ứng có thể dẫn đến các khuyết tật nghiêm trọng ở cạnh wafer, điều này sẽ làm giảm hiệu suất của thiết bị bán dẫn. Semicorex CVD SiCvòng tập trungvì 2L10-506419-21 là thành phần lý tưởng để giải quyết điểm yếu này. Nó thường được lắp đặt trên mâm cặp tĩnh điện và đặt xung quanh mép tấm bán dẫn. Vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 có thể tập trung plasma trên bề mặt tấm bán dẫn và tối ưu hóa sự phân bố điện trường trong buồng phản ứng. Bằng cách này, nó có thể ngăn chặn hiệu quả hiện tượng khắc quá mức ở cạnh wafer, từ đó đảm bảo kết quả khắc chính xác và đồng đều.

CVD SiC focus ring for 2L10-506419-21


Chức năng của vòng lấy nét Semicorex CVD SiC cho 2L10-506419-21


1. Nó có thể cải thiện tính đồng nhất của quá trình khắc và duy trì tốc độ ăn mòn nhất quán giữa tâm và cạnh của tấm bán dẫn, do đó nâng cao năng suất của chip bán dẫn cuối cùng.


2. Nó có thể giúp tạo ra điều kiện ăn mòn ổn định để giảm thiểu sai lệch quy trình và ô nhiễm hạt do phân phối plasma không đồng đều.


3. Nó có thể che chắn cạnh wafer để ngăn ngừa hiện tượng ăn mòn quá mức và hư hỏng cạnh do plasma gây ra.


Đặc tính vật liệu tuyệt vời

Dấu chấm phẩyCVD SiCvòng lấy nét cho 2L10-506419-21 được sản xuất chính xác từ vật liệu SiC CVD rắn. Quy trình CVD có thể nâng cao đáng kể hiệu suất cấu trúc và chức năng của cacbua silic, giúp vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 có các đặc tính tuyệt vời sau để đáp ứng các môi trường vận hành khắc phức tạp.

1. Độ tinh khiết cực cao và hàm lượng tạp chất của nó nhỏ hơn 5 ppm.


2. Độ bền cơ học cao nhờ cấu trúc bên trong dày đặc.


3. Khả năng quản lý nhiệt vượt trội, không xảy ra hiện tượng nóng chảy hoặc làm mềm vật liệu ở nhiệt độ khoảng 2000°C.


4. Khả năng chống ăn mòn đặc biệt, nó có thể chịu được sự ăn mòn và ăn mòn plasma bởi các loại khí xử lý bao gồm HF, HCl và NH₃.


Kiểm soát chất lượng có độ chính xác cao

Semicorex luôn đặt độ chính xác và chất lượng của linh kiện lên hàng đầu và sản xuất các vòng lấy nét CVD SiC theo đúng tiêu chuẩn chính xác chuyên nghiệp của ngành bán dẫn, điều này đảm bảo vòng lấy nét Semicorex CVD SiC cho 2L10-506419-21 mang đến sự lắp ráp hoàn hảo và liền mạch với thiết bị TEL VIGUS RK4.


Thẻ nóng: Vòng lấy nét CVD SiC cho 2L10-506419-21, Trung Quốc, Nhà sản xuất, Nhà cung cấp, Nhà máy, Tùy chỉnh, Số lượng lớn, Cao cấp, Bền bỉ
Danh mục liên quan
Gửi yêu cầu
Xin vui lòng gửi yêu cầu của bạn trong mẫu dưới đây. Chúng tôi sẽ trả lời bạn trong 24 giờ.
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie. Chính sách bảo mật
Từ chối Chấp nhận