Được làm từ vật liệu CVD SiC hiệu suất cao, vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 là bộ phận vòng quan trọng được thiết kế đặc biệt cho thiết bị TEL VIGUS RK4 dùng trong quy trình khắc chất bán dẫn chính xác. Chọn Semicorex có nghĩa là bạn sẽ có được các giải pháp CVD SiC lý tưởng để đạt được kết quả khắc chính xác và đồng đều.
Trong quá trình ăn mòn plasma, sự phân bố plasma không đồng đều trong buồng phản ứng có thể dẫn đến các khuyết tật nghiêm trọng ở cạnh wafer, điều này sẽ làm giảm hiệu suất của thiết bị bán dẫn. Semicorex CVD SiCvòng tập trungvì 2L10-506419-21 là thành phần lý tưởng để giải quyết điểm yếu này. Nó thường được lắp đặt trên mâm cặp tĩnh điện và đặt xung quanh mép tấm bán dẫn. Vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 có thể tập trung plasma trên bề mặt tấm bán dẫn và tối ưu hóa sự phân bố điện trường trong buồng phản ứng. Bằng cách này, nó có thể ngăn chặn hiệu quả hiện tượng khắc quá mức ở cạnh wafer, từ đó đảm bảo kết quả khắc chính xác và đồng đều.
1. Nó có thể cải thiện tính đồng nhất của quá trình khắc và duy trì tốc độ ăn mòn nhất quán giữa tâm và cạnh của tấm bán dẫn, do đó nâng cao năng suất của chip bán dẫn cuối cùng.
2. Nó có thể giúp tạo ra điều kiện ăn mòn ổn định để giảm thiểu sai lệch quy trình và ô nhiễm hạt do phân phối plasma không đồng đều.
3. Nó có thể che chắn cạnh wafer để ngăn ngừa hiện tượng ăn mòn quá mức và hư hỏng cạnh do plasma gây ra.
Dấu chấm phẩyCVD SiCvòng lấy nét cho 2L10-506419-21 được sản xuất chính xác từ vật liệu SiC CVD rắn. Quy trình CVD có thể nâng cao đáng kể hiệu suất cấu trúc và chức năng của cacbua silic, giúp vòng lấy nét Semicorex CVD SiC dành cho 2L10-506419-21 có các đặc tính tuyệt vời sau để đáp ứng các môi trường vận hành khắc phức tạp.
1. Độ tinh khiết cực cao và hàm lượng tạp chất của nó nhỏ hơn 5 ppm.
2. Độ bền cơ học cao nhờ cấu trúc bên trong dày đặc.
3. Khả năng quản lý nhiệt vượt trội, không xảy ra hiện tượng nóng chảy hoặc làm mềm vật liệu ở nhiệt độ khoảng 2000°C.
4. Khả năng chống ăn mòn đặc biệt, nó có thể chịu được sự ăn mòn và ăn mòn plasma bởi các loại khí xử lý bao gồm HF, HCl và NH₃.
Semicorex luôn đặt độ chính xác và chất lượng của linh kiện lên hàng đầu và sản xuất các vòng lấy nét CVD SiC theo đúng tiêu chuẩn chính xác chuyên nghiệp của ngành bán dẫn, điều này đảm bảo vòng lấy nét Semicorex CVD SiC cho 2L10-506419-21 mang đến sự lắp ráp hoàn hảo và liền mạch với thiết bị TEL VIGUS RK4.