Vòng mặt đất phía trên được phủ CVD SiC

CVD SiCCác vòng đất phía trên được phủ sơn thường được lắp đặt ở khu vực phía trên của buồng phản ứng trong thiết bị khắc plasma, xung quanh mâm cặp tĩnh điện bán dẫn. Các vòng tiếp đất phía trên được phủ CVD SiC rất quan trọng đối với toàn bộ hệ thống khắc, có thể đóng vai trò là rào cản vật lý để bảo vệ các bộ phận của thiết bị khỏi sự tấn công của plasma và điều chỉnh điện trường bên trong cũng như giới hạn phạm vi phân phối plasma để đảm bảo kết quả khắc đồng nhất.

Khắc plasma là công nghệ khắc khô được sử dụng rộng rãi trong sản xuất chất bán dẫn, hoạt động bằng cách tận dụng các tương tác vật lý và hóa học giữa plasma và bề mặt vật liệu bán dẫn để loại bỏ có chọn lọc các khu vực cụ thể, từ đó đạt được quá trình xử lý các cấu trúc chính xác. Trong môi trường đòi hỏi khắc nghiệt của plasma, plasma năng lượng cao gây ra sự ăn mòn mạnh và tấn công các bộ phận bên trong buồng phản ứng. Để đảm bảo hoạt động đáng tin cậy và hiệu quả, các bộ phận của buồng phải có khả năng chống ăn mòn tuyệt vời, tính chất cơ học và đặc tính nhiễm bẩn thấp. Các vòng đệm phía trên được phủ Semicorex CVD SiC được thiết kế hoàn hảo để giải quyết các môi trường hoạt động khắc nghiệt, có độ ăn mòn cao này.

Lớp phủ CVD SiC đáng tin cậy

Để hoạt động tốt hơn trong các điều kiện khắc khắc nghiệt, các vòng đệm phía trên được phủ Semicorex CVD SiC được phủ một lớp phủ CVD SiC hiệu suất cao, giúp nâng cao hơn nữa hiệu suất và độ bền của chúng.

1. Độ tinh khiết cực cao

cáclớp phủ SiCđược chế tạo thông qua quy trình CVD có tính năng cô đặc tuyệt vời với độ tinh khiết cực cao (độ tinh khiết vượt quá 99,9999%), có thể ngăn chặn các vòng đất phía trên được phủ Semicorex CVD SiC khỏi sự tấn công của plasma năng lượng cao trong các ứng dụng khắc, do đó tránh được sự ô nhiễm do hạt tạp chất từ ​​ma trận.

2. Cải thiện khả năng chống ăn mòn

Lớp phủ SiC được chế tạo thông qua quy trình CVD giúp cải thiện khả năng chống ăn mòn, giúp các vòng đệm phía trên được phủ SiC của Semicorex CVD chống lại sự ăn mòn đầy thách thức từ plasma (đặc biệt là các khí ăn mòn như halogen và flo).

3. Tính chất cơ học nâng cao

Các vòng tiếp đất phía trên được phủ Semicorex CVD SiC có thể chịu được sự bắn phá plasma mạnh, ứng suất cơ học và xử lý thường xuyên mà không bị biến dạng hoặc gãy trong quá trình sử dụng lâu dài nhờ độ cứng và khả năng chống mài mòn được tăng cường của lớp phủ CVD SiC.

Kiểm tra chất lượng và xử lý tiêu chuẩn cao

Để thích ứng hoàn hảo với các điều kiện khắc chất bán dẫn khắt khe, các vòng mài phía trên được phủ Semicorex CVD SiC phải trải qua quá trình gia công chính xác và kiểm tra nghiêm ngặt.

Xử lý bề mặt: Độ chính xác đánh bóng là Ra < 0,1µm; độ chính xác mài mịn là Ra > 0,1µm

Độ chính xác xử lý được kiểm soát trong phạm vi 0,03 mm

Kiểm tra chất lượng:

Các vòng SiC CVD rắn của Semicorex phải tuân theo phân tích ICP-MS (phép đo phổ khối plasma kết hợp cảm ứng). Các vòng SiC CVD rắn của Semicorex phải được đo kích thước, kiểm tra điện trở suất và kiểm tra trực quan, đảm bảo rằng sản phẩm không có chip, vết trầy xước, vết nứt, vết bẩn và các khuyết tật khác.