Vòng trên cùng 8 inch epi

Vòng hàng đầu EPI Semicorex 8 inch là một thành phần chuyên dụng của các hệ thống lắng đọng epiticular (EPI) cung cấp hiệu suất cao như vòng che phủ trên cùng trên buồng phản ứng. Tập trung vào tính toàn vẹn cấu trúc và độ ổn định nhiệt trong quá trình tăng trưởng epiticular của các tấm bán dẫn, vòng trên cùng của EPI được làm bằng than chì có độ tinh khiết cao và được phủ bằng cacbua silicon (SIC) để chịu được nhiệt độ và môi trường phản ứng hóa học của sản xuất bán dẫn.

Trong các lò phản ứng epiticular, vòng trên cùng giúp giữ lại môi trường wafer và đóng một vai trò quan trọng trong tính đồng nhất nhiệt độ và dòng khí trong quá trình lắng đọng như một phần của lắp ráp measceptor. Lớp phủ SIC trên chất nền than chì cung cấp vòng trên cùng EPI với độ ổn định nhiệt và môi trường trơ cần thiết để bảo vệ lõi than chì do tiếp xúc với các quá trình khí trong quá trình thực hiện vòng hàng đầu EPI (hydro, silane, cororosilanes, v.v.). Độ cứng và độ dẫn của lớp SIC giúp tăng cường hiệu suất của vòng trên cùng EPI bằng cách ngăn chặn sự xuống cấp và cho phép các lớp ổn định hơn trong suốt chu kỳ sản xuất.

Với cam kết về độ chính xác kích thước, tính nhất quán của lớp phủ và độ lặp lại, vòng hàng đầu EPI 8 inch được sản xuất với kỹ thuật chính xác. Chất nền than chì được gia công cho dung sai chặt chẽ và được tinh chế nhiệt để phân tách các tạp chất, cung cấp một chất nền sạch với độ tinh khiết và sức mạnh tuyệt vời. Lớp phủ SIC được áp dụng thông qua lắng đọng hơi hóa học (CVD), để tạo thành một lớp bảo vệ dày đặc, nhất quán và liên kết mạnh mẽ. Quá trình này giảm thiểu việc tạo hạt và cho phép lớp phủ duy trì tính toàn vẹn bề mặt trong quá trình sử dụng mở rộng.

Các nhà sản xuất chất bán dẫn dựa vào vòng hàng đầu của EPI để duy trì các thông số buồng quan trọng và hỗ trợ các tấm wafer không có khuyết tật trong quá trình sản xuất. Cấu hình được thiết kế để sử dụng với các hệ thống xử lý wafer 8 inch hàng đầu. Tùy chọn tùy chỉnh có sẵn cho độ dày, hoàn thiện bề mặt và thiết kế có rãnh để quản lý nhiệt tốt hơn hoặc thậm chí phân phối khí.

Việc phù hợp với các thuộc tính của than chì phủ SIC cho ứng dụng này có sự kết hợp tốt nhất các thuộc tính từ cả hai vật liệu; Than chì rất có thể thực hiện và có khả năng chống sốc nhiệt kết hợp với cacbua silicon khó hơn, chống ăn mòn và có tuổi thọ cao hơn. Sự kết hợp này cuối cùng cung cấp cho bạn một vòng hàng đầu EPI đáng tin cậy ở nhiệt độ cao và đảm bảo môi trường xử lý sạch và ổn định giúp giảm thời gian bảo trì và cung cấp thời gian hoạt động của thiết bị nâng cao.

Các thành phần than chì đóng một vai trò không thể thiếu và quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn. Chất lượng của vật liệu than chì ảnh hưởng đáng kể đến chất lượng của sản phẩm hoàn chỉnh. Tính nhất quán hàng loạt than chì và tính đồng nhất vật liệu của chúng tôi được kiểm soát và đảm bảo trong suốt quá trình sản xuất.

1. Sản xuất lô, sử dụng lò cacbon hóa nhỏ với công suất chỉ 50 mét khối.

2. Mỗi mảnh vật liệu được theo dõi và theo dõi.

3. Giám sát nhiệt độ tại nhiều điểm trong lò đảm bảo sự khác biệt nhiệt độ tối thiểu.

4. Giám sát nhiệt độ tại nhiều điểm trên vật liệu đảm bảo chênh lệch nhiệt độ tối thiểu.

Vòng hàng đầu EPI 8 inch của Semicorex cung cấp hiệu suất đặc biệt, tính nhất quán theo đợt và độ tin cậy đã được chứng minh trong các chất bán dẫn khó khăn nhất silicon, cacbua silicon hoặc các quá trình epitax của chất bán dẫn hợp chất khác. Trên mỗi bước sản xuất, chúng tôi sản xuất các sản phẩm có kiểm soát chất lượng, điều đó có nghĩa là mọi sản phẩm được mua cho ngành công nghiệp bán dẫn vượt quá thông số kỹ thuật chất lượng.

Chọn vòng hàng đầu EPI 8 inch của Semicorex cho ứng dụng epitaxy của bạn để tận dụng các khả năng được cung cấp thông qua kỹ thuật chính xác, vật liệu vượt trội và tùy chỉnh cụ thể ứng dụng để cải thiện năng suất và hiệu suất thiết bị.