Chất nhạy cảm với tấm wafer than chì được phủ Semicorex TaC là thành phần tiên tiến được áp dụng thường xuyên để hỗ trợ và định vị ổn định các tấm bán dẫn trong quá trình epiticular bán dẫn tiên tiến. Tận dụng các công nghệ sản xuất tiên tiến và kinh nghiệm sản xuất trưởng thành, Semicorex cam kết cung cấp các bộ cảm biến wafer than chì phủ TaC được thiết kế theo yêu cầu với chất lượng dẫn đầu thị trường cho các khách hàng quý giá của chúng tôi.
Với sự tiến bộ không ngừng của các quy trình sản xuất chất bán dẫn hiện đại, các yêu cầu đối với tấm wafer epiticular về tính đồng nhất của màng, chất lượng tinh thể và độ ổn định của quy trình ngày càng trở nên nghiêm ngặt. Vì lý do này, việc sử dụng hiệu suất cao và bềnChất nhạy cảm bằng tấm than chì được phủ TaCtrong quá trình sản xuất là rất quan trọng để đảm bảo sự lắng đọng ổn định và tăng trưởng epiticular chất lượng cao.
Semicorex sử dụng loại có độ tinh khiết caothan chìlà ma trận của các chất nhạy cảm bán dẫn, mang lại tính dẫn nhiệt vượt trội, khả năng chịu nhiệt độ cao cũng như độ bền cơ học và độ cứng. Hệ số giãn nở nhiệt của nó rất phù hợp với hệ số giãn nở nhiệt của lớp phủ TaC, đảm bảo hiệu quả độ bám dính chắc chắn và ngăn lớp phủ bị bong tróc hoặc nứt vỡ.
Tantalum cacbua là vật liệu hiệu suất cao với nhiệt độ nóng chảy cực cao (khoảng 3880oC), tính dẫn nhiệt tuyệt vời, độ ổn định hóa học vượt trội và độ bền cơ học vượt trội. Các thông số hiệu suất cụ thể như sau:
Semicorex sử dụng công nghệ CVD tiên tiến để tuân thủ một cách thống nhất và chắc chắn cáclớp phủ TaCvào ma trận than chì, giảm hiệu quả nguy cơ nứt hoặc bong tróc lớp phủ do nhiệt độ cao và điều kiện vận hành ăn mòn hóa học. Ngoài ra, công nghệ xử lý chính xác của Semicorex đạt được độ phẳng bề mặt ở cấp độ nanomet cho các chất nhạy cảm với tấm wafer than chì được phủ TaC và dung sai lớp phủ của chúng được kiểm soát ở cấp độ micromet, cung cấp nền tảng tối ưu cho việc lắng đọng epiticular wafer.
Ma trận than chì không thể được sử dụng trực tiếp trong các quy trình như Epit Wax chùm phân tử (MBE), lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD). Việc áp dụng lớp phủ TaC có hiệu quả tránh được sự nhiễm bẩn của tấm bán dẫn do phản ứng giữa nền than chì và hóa chất, do đó ngăn ngừa tác động đến hiệu suất lắng đọng cuối cùng. Để đảm bảo độ sạch ở mức bán dẫn trong buồng phản ứng, mỗi chất nhạy cảm với tấm wafer than chì được phủ Semicorex TaC cần tiếp xúc trực tiếp với các tấm bán dẫn sẽ được làm sạch bằng siêu âm trước khi đóng gói chân không.