Các thành phần được phủ TaC trong tăng trưởng epiticular

Lớp phủ Tantalum Carbide (TaC) cần thiết cho một số bộ phận quan trọng nhất của hệ thống nạp khí được thiết kế để sử dụng trong các điều kiện khắc nghiệt như những điều kiện bên trong lò lắng đọng hơi hóa học (CVD). Nhiệt độ cao và tiếp xúc với khí ăn mòn trong lò CVD tạo ra môi trường làm việc rất khó khăn. Với khả năng cung cấp độ trơ hóa học tuyệt vời cũng như chống ăn mòn và phân hủy, việc sử dụng lớp phủ TaC trên các bộ phận được phủ TaC hút khí vào trong quá trình tăng trưởng epitaxy sẽ làm giảm đáng kể khả năng tạo ra các hạt khiếm khuyết, do đó, kéo dài tuổi thọ của bộ phận và mang lại năng suất và chất lượng cao nhất của màng biểu mô thu thập được.

Ưu điểm củaLớp phủ tantalum cacbua (TaC)

Lớp phủ Tantalum Carbide (TaC) cần thiết cho một số bộ phận quan trọng nhất của hệ thống nạp khí được thiết kế để sử dụng trong các điều kiện khắc nghiệt như những điều kiện bên trong lò lắng đọng hơi hóa học (CVD). Nhiệt độ cao và tiếp xúc với khí ăn mòn trong lò CVD tạo ra môi trường làm việc rất khó khăn. Với khả năng cung cấp độ trơ hóa học tuyệt vời cũng như chống ăn mòn và phân hủy, việc sử dụng lớp phủ TaC trên các bộ phận được phủ TaC hút khí vào trong quá trình tăng trưởng epitaxy sẽ làm giảm đáng kể khả năng tạo ra các hạt khiếm khuyết, do đó, kéo dài tuổi thọ của bộ phận và mang lại năng suất và chất lượng cao nhất của màng biểu mô thu thập được.

Công nghệ sơn phủ xuất sắc

Không bị tách lớp hoặc bong tróc trong quá trình luân chuyển nhiệt, đảm bảo độ tin cậy lâu dài.Các thành phần được phủ TaC trong tăng trưởng epiticularđể đáp ứng các tiêu chuẩn công nghiệp đòi hỏi khắt khe nhất hiện nay về cả hiệu suất và chất lượng. Độ chính xác mà Semicorex sản xuất ra lớp phủ TaC được thể hiện rõ qua chất lượng cao của lớp phủ được sản xuất.

Lựa chọn chất nền được tối ưu hóa

Hiệu suất của một bộ phận được phủ về cơ bản gắn liền với chất lượng của chất nền của nó. Việc lựa chọn vật liệu nền than chì phù hợp nhất cho ống chữ nhật phủ TaC của Semicorex được đội ngũ kỹ thuật của chúng tôi thực hiện cẩn thận bằng cách tuân theo một số tiêu chí quan trọng như sau:

Chúng tôi chọn loại than chì dựa trên các đặc tính vật lý của nó để đạt được liên kết mạnh nhất giữa lớp phủ TaC và chất nền than chì. Điều này đảm bảo rằng lớp phủ TaC có độ bám dính tối đa với nền than chì.

Than chì được sử dụng để chế tạo các ống hình chữ nhật được phủ TaC của chúng tôi phải có độ tinh khiết cực cao để giảm thiểu khả năng thoát khí và nhiễm bẩn trong quá trình CVD ở nhiệt độ cao.

Quy trình tìm nguồn cung ứng và kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt của chúng tôi đảm bảo rằng mỗi lô chất nền than chì mà chúng tôi sử dụng đều có cùng đặc tính vật liệu. Điều này cho phép chúng tôi luôn sản xuất được ống hình chữ nhật được phủ TaC với các đặc tính hiệu suất giống nhau.

Độ tin cậy và quan hệ đối tác đã được chứng minh

Thành phần được phủ Semicorex TaC trong tăng trưởng epiticular là một bộ phận có hình ống chữ nhật, bộ phận chịu trách nhiệm chính trong quá trình nạp khí vào lò CVD. Vì vậy nó là thành phần thiết yếu và phải đối mặt với môi trường khắc nghiệt, nhiệt độ cao cũng có khí ăn mòn. Nó đưa ra lý do chúng tôi chọn than chì phủ TaC.

Chúng tôi nhận thấy rằng việc cung cấp linh kiện là một phần quan trọng trong quy trình sản xuất của bạn. Đó là lý do tại sao Semicorex đã cam kết trở thành đối tác lâu dài bằng cách cung cấp sản phẩm chất lượng cao và đáng tin cậy cũng như xuất sắc trong việc cung cấp dịch vụ hậu cần và hỗ trợ sau bán hàng để giúp hoạt động kinh doanh của bạn diễn ra suôn sẻ và không bị gián đoạn.