Lớp phủ SiC là một lớp mỏng trên chất nhạy cảm thông qua quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD). Vật liệu cacbua silic mang lại một số lợi thế so với silicon, bao gồm cường độ điện trường đánh thủng gấp 10 lần, khoảng cách dải gấp 3 lần, giúp vật liệu có khả năng chịu nhiệt độ và hóa chất cao, chống mài mòn cũng như tính dẫn nhiệt tuyệt vời.
Semicorex cung cấp dịch vụ tùy chỉnh, giúp bạn đổi mới với các thành phần có tuổi thọ cao hơn, giảm thời gian chu trình và cải thiện năng suất.
Lớp phủ SiC sở hữu một số ưu điểm độc đáo
Khả năng chịu nhiệt độ cao: Chất nhạy cảm được phủ CVD SiC có thể chịu được nhiệt độ cao lên tới 1600°C mà không bị suy giảm nhiệt đáng kể.
Kháng hóa chất: Lớp phủ silicon cacbua mang lại khả năng chống chịu tuyệt vời với nhiều loại hóa chất, bao gồm axit, kiềm và dung môi hữu cơ.
Chống mài mòn: Lớp phủ SiC mang lại cho vật liệu khả năng chống mài mòn tuyệt vời, khiến nó phù hợp cho các ứng dụng có độ mài mòn cao.
Độ dẫn nhiệt: Lớp phủ CVD SiC mang lại cho vật liệu khả năng dẫn nhiệt cao, khiến nó phù hợp để sử dụng trong các ứng dụng nhiệt độ cao yêu cầu truyền nhiệt hiệu quả.
Độ bền và độ cứng cao: Chất nhạy cảm được phủ silicon cacbua mang lại cho vật liệu độ bền và độ cứng cao, khiến vật liệu phù hợp cho các ứng dụng đòi hỏi độ bền cơ học cao.
Lớp phủ SiC được sử dụng trong nhiều ứng dụng khác nhau
Sản xuất đèn LED: Chất nhạy được phủ CVD SiC được sử dụng trong sản xuất các loại đèn LED khác nhau, bao gồm đèn LED xanh dương và xanh lục, đèn LED UV và đèn LED UV sâu, do tính dẫn nhiệt và kháng hóa chất cao.
Truyền thông di động: Chất nhạy được phủ CVD SiC là một phần quan trọng của HEMT để hoàn thành quy trình epiticular GaN-on-SiC.
Xử lý chất bán dẫn: Chất nhạy được phủ CVD SiC được sử dụng trong ngành bán dẫn cho các ứng dụng khác nhau, bao gồm xử lý tấm bán dẫn và tăng trưởng epiticular.
Linh kiện than chì phủ SiC
Được chế tạo bằng than chì Silicon Carbide Coating (SiC), lớp phủ được áp dụng bằng phương pháp CVD cho các loại than chì mật độ cao cụ thể, do đó nó có thể hoạt động trong lò nhiệt độ cao với hơn 3000 ° C trong môi trường trơ, 2200 ° C trong chân không .
Các đặc tính đặc biệt và khối lượng thấp của vật liệu cho phép tốc độ gia nhiệt nhanh, phân bố nhiệt độ đồng đều và độ chính xác vượt trội trong kiểm soát.
Dữ liệu vật liệu của lớp phủ Semicorex SiC
Tính chất điển hình |
Đơn vị |
Giá trị |
Kết cấu |
|
Giai đoạn FCC |
Định hướng |
Phân số (%) |
111 ưu tiên |
Mật độ lớn |
g/cm³ |
3.21 |
độ cứng |
Độ cứng Vickers |
2500 |
Công suất nhiệt |
J kg-1 K-1 |
640 |
Giãn nở nhiệt 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Mô đun của Young |
Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) |
430 |
Kích thước hạt |
mm |
2~10 |
Nhiệt độ thăng hoa |
℃ |
2700 |
Sức mạnh cảm giác |
MPa (RT 4 điểm) |
415 |
Độ dẫn nhiệt |
(W/mK) |
300 |
Kết luận Chất cảm ứng được phủ CVD SiC là vật liệu tổng hợp kết hợp các đặc tính của chất cảm ứng và cacbua silic. Vật liệu này sở hữu các đặc tính độc đáo, bao gồm khả năng chịu nhiệt độ và hóa chất cao, chống mài mòn tuyệt vời, độ dẫn nhiệt cao, độ bền và độ cứng cao. Những đặc tính này làm cho nó trở thành vật liệu hấp dẫn cho nhiều ứng dụng nhiệt độ cao khác nhau, bao gồm xử lý chất bán dẫn, xử lý hóa học, xử lý nhiệt, sản xuất pin mặt trời và sản xuất đèn LED.
Semicorex là nhà sản xuất và cung cấp nổi tiếng Tấm đĩa hình ngôi sao MOCVD chất lượng cao cho wafer Epitaxy. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế đặc biệt để đáp ứng nhu cầu của ngành công nghiệp bán dẫn, đặc biệt là trong việc phát triển lớp epitaxy trên chip wafer. Bộ phận nhạy cảm của chúng tôi được sử dụng làm tấm trung tâm trong MOCVD, với thiết kế hình bánh răng hoặc hình vòng. Sản phẩm có khả năng chịu nhiệt độ cao và ăn mòn cao, lý tưởng để sử dụng trong môi trường khắc nghiệt.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex là nhà cung cấp và sản xuất hàng đầu Chất nhạy cảm MOCVD cho tăng trưởng epiticular. Sản phẩm của chúng tôi được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp bán dẫn, đặc biệt là trong việc phát triển lớp epitaxy trên chip wafer. Bộ cảm biến của chúng tôi được thiết kế để sử dụng làm tấm trung tâm trong MOCVD, với thiết kế hình bánh răng hoặc hình vòng. Sản phẩm có khả năng chịu nhiệt và chống ăn mòn cao nên ổn định trong môi trường khắc nghiệt.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex là nhà sản xuất và cung cấp hàng đầu về Chất nhạy cảm MOCVD phủ SiC. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế đặc biệt cho ngành công nghiệp bán dẫn để phát triển lớp epiticular trên chip wafer. Chất mang than chì được phủ Silicon Carbide có độ tinh khiết cao được sử dụng làm tấm trung tâm trong MOCVD, với thiết kế hình bánh răng hoặc hình vòng. Chất nhạy cảm của chúng tôi được sử dụng rộng rãi trong thiết bị MOCVD, đảm bảo khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao cũng như độ ổn định cao trong môi trường khắc nghiệt.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex là nhà sản xuất và cung cấp quy mô lớn Chất nhạy cảm than chì phủ silicon cacbua tại Trung Quốc. Chúng tôi tập trung vào các ngành công nghiệp bán dẫn như lớp cacbua silic và chất bán dẫn epitaxy. Chất nhạy cảm than chì phủ SiC dành cho MOCVD của chúng tôi có lợi thế về giá tốt và bao phủ nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn.
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm mang RTP Graphite của Semicorex là giải pháp hoàn hảo cho các ứng dụng xử lý tấm bán dẫn, bao gồm tăng trưởng epiticular và xử lý xử lý tấm bán dẫn. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế để mang lại khả năng chịu nhiệt và độ đồng đều nhiệt vượt trội, đảm bảo rằng các chất nhạy cảm với epit Wax phải chịu môi trường lắng đọng, có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao.
Đọc thêmGửi yêu cầuSemicorex RTP SiC Coating Carrier mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội và độ đồng đều nhiệt, khiến nó trở thành giải pháp hoàn hảo cho các ứng dụng xử lý tấm bán dẫn. Với than chì phủ SiC chất lượng cao, sản phẩm này được thiết kế để chịu được môi trường lắng đọng khắc nghiệt nhất cho sự phát triển epiticular. Độ dẫn nhiệt cao và đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời đảm bảo hiệu suất đáng tin cậy cho RTA, RTP hoặc làm sạch bằng hóa chất khắc nghiệt.
Đọc thêmGửi yêu cầu