Si Epitaxy

Si epitaxy cho phép thiết kế các thuộc tính lớp cụ thể, chẳng hạn như độ dày, nồng độ pha tạp và thành phần. Bằng cách đưa một lượng tạp chất có kiểm soát, được gọi là tạp chất, vào lớp epitaxy, các đặc tính điện của thiết bị thu được có thể được điều chỉnh chính xác. Điều này cho phép tạo ra các vùng khác nhau với các loại độ dẫn riêng biệt (loại n hoặc loại p) và nồng độ chất mang mong muốn, cho phép tích hợp các mạch điện tử phức tạp.

Si epitaxy là một quy trình cơ bản trong việc chế tạo các thiết bị bán dẫn tiên tiến, bao gồm bộ vi xử lý, chip bộ nhớ, cảm biến hình ảnh và pin mặt trời. Nó đóng một vai trò quan trọng trong việc cải thiện hiệu suất, thu nhỏ và chức năng của thiết bị. Khả năng lắng đọng các lớp epiticular chất lượng cao với khả năng kiểm soát chính xác các đặc tính vật liệu góp phần vào sự tiến bộ và đổi mới không ngừng trong ngành công nghiệp bán dẫn.