Chọn Hệ thống khắc plasma ICP của Semicorex cho quy trình PSS để có các quy trình epitaxy và MOCVD chất lượng cao. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế dành riêng cho các quy trình này, mang lại khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm khắc plasma ICP của Semicorex cung cấp khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội cho quá trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng. Sản phẩm của chúng tôi được thiết kế để chịu được nhiệt độ cao và hóa chất tẩy rửa khắc nghiệt, đảm bảo độ bền và tuổi thọ. Với bề mặt sạch và nhẵn, chất mang của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầu