Chất mang phủ SiC của Semicorex dành cho Hệ thống khắc plasma ICP là giải pháp đáng tin cậy và tiết kiệm chi phí cho các quy trình xử lý tấm bán dẫn ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Các giá đỡ của chúng tôi có lớp phủ tinh thể SiC mịn mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội, độ đồng đều nhiệt và khả năng kháng hóa chất bền bỉ.
Đọc thêmGửi yêu cầuChất nhạy được phủ cacbua silic của Semicorex dành cho Plasma kết hợp cảm ứng (ICP) được thiết kế đặc biệt cho các quy trình xử lý tấm bán dẫn ở nhiệt độ cao như epit Wax và MOCVD. Với khả năng chống oxy hóa ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C, các vật mang của chúng tôi đảm bảo cấu hình nhiệt đồng đều, mô hình dòng khí tầng và ngăn ngừa ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất.
Đọc thêmGửi yêu cầuGiá đỡ wafer khắc ICP của Semicorex là giải pháp hoàn hảo cho các quy trình xử lý wafer ở nhiệt độ cao như epitaxy và MOCVD. Với khả năng chống oxy hóa ổn định ở nhiệt độ cao lên tới 1600°C, các vật mang của chúng tôi đảm bảo cấu hình nhiệt đồng đều, mô hình dòng khí tầng và ngăn ngừa ô nhiễm hoặc khuếch tán tạp chất.
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm mang khắc ICP của Semicorex là giải pháp hoàn hảo cho các quy trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi mang lại khả năng chịu nhiệt và ăn mòn vượt trội, thậm chí có độ đồng đều nhiệt và mô hình dòng khí tầng. Với bề mặt sạch và mịn, tàu sân bay của chúng tôi là lựa chọn hoàn hảo để xử lý các tấm bán dẫn nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầuGiá đỡ wafer cho quy trình khắc ICP của Semicorex là sự lựa chọn hoàn hảo cho các quy trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn vượt trội, thậm chí có độ đồng đều nhiệt và mô hình dòng khí tầng tối ưu để mang lại kết quả nhất quán và đáng tin cậy.
Đọc thêmGửi yêu cầuICP Silicon Carbon Coated Graphite của Semicorex là lựa chọn lý tưởng cho các quy trình xử lý wafer và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn vượt trội, thậm chí có độ đồng đều nhiệt và mô hình dòng khí tầng tối ưu.
Đọc thêmGửi yêu cầu