Tin tức

TSMC: Sản xuất thử nghiệm rủi ro quy trình 2nm vào năm tới

Trong báo cáo thường niên mới phát hành, Chủ tịch TSMC Deyin Liu và Giám đốc điều hành Chieh-Jia Wei đã tiết lộ tiến trình liên quan đến quy trình 2nm.

Các kịch bản ứng dụng cho các lớp Epitaxy

Chúng tôi biết rằng các lớp epitaxy tiếp theo cần được xây dựng trên một số chất nền wafer để chế tạo thiết bị, điển hình là các thiết bị phát sáng LED, yêu cầu các lớp epitaxy GaAs trên chất nền silicon; Các lớp epitaxy SiC được phát triển trên bề mặt SiC dẫn điện để chế tạo các thiết bị như SBD, M......

Thảo luận về lò CVD

Trung Quốc vẫn là thị trường thiết bị bán dẫn lớn nhất

Doanh số bán thiết bị sản xuất chất bán dẫn trên toàn thế giới đã tăng 5% từ 102,6 tỷ đô la vào năm 2021 lên mức kỷ lục mọi thời đại là 107,6 tỷ đô la vào năm ngoái, SEMI, hiệp hội ngành đại diện cho chuỗi cung ứng sản xuất và thiết kế điện tử toàn cầu.

Quy trình CVD cho epitaxy wafer SiC

Quy trình CVD cho epitaxy wafer SiC liên quan đến việc lắng đọng màng SiC lên đế SiC bằng phản ứng pha khí. Các khí tiền thân của SiC, điển hình là methyltrichlorosilane (MTS) và ethylene (C2H4), được đưa vào buồng phản ứng nơi chất nền SiC được nung nóng đến nhiệt độ cao (thường từ 1400 đến 1600 độ......

Nhật Bản gần đây đã hạn chế xuất khẩu 23 loại thiết bị sản xuất chất bán dẫn

Nhật Bản gần đây đã hạn chế xuất khẩu 23 loại thiết bị sản xuất chất bán dẫn. Thông báo này đã gây ra những gợn sóng trong toàn ngành, vì động thái này dự kiến ​​sẽ có tác động đáng kể đến chuỗi cung ứng toàn cầu cho sản xuất chất bán dẫn.