> Tin tức > Công nghiệp Tin tức

Công nghiệp Tin tức

Quá trình oxy hóa

Giai đoạn cơ bản nhất của tất cả các quá trình là quá trình oxy hóa. Quá trình oxy hóa là đặt tấm wafer silicon trong môi trường có các chất oxy hóa như oxy hoặc hơi nước để xử lý nhiệt ở nhiệt độ cao (800 ~ 1200oC) và phản ứng hóa học xảy ra trên bề mặt của tấm wafer silicon để tạo thành màng oxit ......

Đọc thêm

Tại sao Epit Wax Gllium Nitride (GaN) không phát triển trên chất nền GaN?

Sự phát triển của epit Wax GaN trên chất nền GaN đặt ra một thách thức đặc biệt, bất chấp những đặc tính ưu việt của vật liệu khi so sánh với silicon. Epit Wax GaN mang lại những lợi thế đáng kể về độ rộng vùng cấm, độ dẫn nhiệt và điện trường đánh thủng so với vật liệu gốc silicon. Điều này khiến v......

Đọc thêm

Cách thực hiện quy trình CMP

Trong quá trình sản xuất tấm wafer silicon, sau khi thanh pha lê được cắt thành các tấm silicon, nó sẽ cần được đánh bóng và làm sạch để thu được một tấm wafer silicon đơn tinh thể giống như một tấm gương.

Đọc thêm

Quy trình CMP là gì

Trong sản xuất chất bán dẫn, độ phẳng ở cấp độ nguyên tử thường được sử dụng để mô tả độ phẳng tổng thể của wafer, với đơn vị là nanomet (nm).

Đọc thêm

Quá trình cấy ghép và khuếch tán ion

Cấy ion là phương pháp pha tạp chất bán dẫn và là một trong những quy trình chính trong sản xuất chất bán dẫn.

Đọc thêm

Những thách thức của công nghệ cấy ion trong thiết bị nguồn SiC và GaN

Các chất bán dẫn có dải thông rộng (WBG) như Silicon Carbide (SiC) và Gallium Nitride (GaN) được kỳ vọng sẽ đóng vai trò ngày càng quan trọng trong các thiết bị điện tử công suất. Chúng mang lại một số lợi thế so với các thiết bị Silicon (Si) truyền thống, bao gồm hiệu suất, mật độ năng lượng và tần......

Đọc thêm

<...15 16 17 18 19...31 >