Giá đỡ vật mang khắc cho khắc PSS

Giá đỡ Chất mang Etching của Semicorex cho PSS Etching được thiết kế cho các ứng dụng thiết bị epitaxy đòi hỏi khắt khe nhất. Chất mang than chì siêu tinh khiết của chúng tôi có thể chịu được môi trường khắc nghiệt, nhiệt độ cao và quá trình tẩy rửa bằng hóa chất khắc nghiệt. Chất mang phủ SiC có đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời, độ dẫn nhiệt cao và tiết kiệm chi phí. Sản phẩm của chúng tôi được sử dụng rộng rãi ở nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ, và chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Tại Semicorex, chúng tôi đã thiết kế Giá đỡ vật mang khắc cho PSS Etching dành riêng cho các môi trường khắc nghiệt cần thiết cho quá trình xử lý wafer và tăng trưởng epiticular. Chất mang than chì siêu tinh khiết của chúng tôi là lý tưởng cho các giai đoạn lắng đọng màng mỏng như MOCVD, chất nhạy cảm với epitaxy, bánh kếp hoặc nền tảng vệ tinh và xử lý xử lý wafer như khắc. Chất mang phủ SiC có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao, đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời và độ dẫn nhiệt cao. Sản phẩm của chúng tôi có hiệu quả về chi phí và mang lại lợi thế về giá tốt.

Liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về Giá đỡ vật mang khắc cho Khắc PSS.

Các thông số của Giá đỡ vật mang khắc cho khắc PSS

Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC
Thuộc tính SiC-CVD
Cấu trúc tinh thể	Giai đoạn FCC Î²
Tỉ trọng	g/cm ³	3.21
độ cứng	độ cứng Vickers	2500
Kích thước hạt	Î¼m	2~10
độ tinh khiết hóa học	%	99.99995
Nhiệt dung	J·kg-1 ·K-1	640
Nhiệt độ thăng hoa	℃	2700
Sức mạnh của Felexural	MPa (RT 4 điểm)	415
Mô đun Youngâs	Gpa (uốn cong 4pt, 1300â)	430
Giãn nở nhiệt (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Dẫn nhiệt	(W/mK)	300