Giá đỡ mang khắc cho khắc PSS

Giá đỡ vật mang khắc cho PSS Etching của Semicorex được thiết kế cho các ứng dụng thiết bị epit Wax có yêu cầu khắt khe nhất. Chất mang than chì siêu tinh khiết của chúng tôi có thể chịu được môi trường khắc nghiệt, nhiệt độ cao và làm sạch bằng hóa chất khắc nghiệt. Chất mang được phủ SiC có đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời, độ dẫn nhiệt cao và tiết kiệm chi phí. Sản phẩm của chúng tôi được sử dụng rộng rãi ở nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ và chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Tại Semicorex, chúng tôi đã thiết kế Giá đỡ vật mang khắc cho PSS Etching đặc biệt cho các môi trường khắc nghiệt cần thiết cho quá trình tăng trưởng epiticular và xử lý wafer. Chất mang than chì siêu tinh khiết của chúng tôi lý tưởng cho các giai đoạn lắng đọng màng mỏng như MOCVD, chất nhạy cảm epit Wax, nền bánh kếp hoặc vệ tinh và xử lý xử lý tấm bán dẫn như khắc axit. Chất mang được phủ SiC có khả năng chịu nhiệt và ăn mòn cao, đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời và độ dẫn nhiệt cao. Sản phẩm của chúng tôi có hiệu quả về chi phí và mang lại lợi thế về giá tốt.

Liên hệ với chúng tôi ngay hôm nay để tìm hiểu thêm về Giá đỡ tấm khắc cho tấm khắc PSS của chúng tôi.

Các thông số của Giá đỡ vật mang khắc cho PSS Etching

Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC
Thuộc tính SiC-CVD
Cấu trúc tinh thể	Giai đoạn FCC
Tỉ trọng	g/cm³	3.21
độ cứng	Độ cứng Vickers	2500
Kích thước hạt	mm	2~10
Độ tinh khiết hóa học	%	99.99995
Công suất nhiệt	J kg-1 K-1	640
Nhiệt độ thăng hoa	℃	2700
Sức mạnh cảm giác	MPa (RT 4 điểm)	415
Mô đun của Young	Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC)	430
Giãn nở nhiệt (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Độ dẫn nhiệt	(W/mK)	300