Máy sưởi tổng hợp PBN

Máy sưởi tổng hợp Semicorex PBN hợp nhất độ dẫn nhiệt tuyệt vời của than chì nhiệt phân với độ trơ hóa học và cách nhiệt của nitride boron pyrolytic. Những máy sưởi này được chế tạo từ than chì có độ tinh khiết rất cao và PBN được áp dụng bằng quy trình CVD (lắng đọng hóa chất hóa học) chất lượng cao trong điều kiện lắng đọng có độ tinh khiết cao. Mỗi lớp thành tựu cá nhân đã được lắng đọng với khả năng kiểm soát rất cao để đảm bảo độ tinh khiết cực cao và tính chất nhiệt phù hợp. Lõi than chì, cung cấp hệ thống sưởi nhanh và đồng đều trong suốt, được bảo vệ khỏi quá trình oxy hóa và ô nhiễm bởi viên nang PBN; Điều này làm cho lò sưởi lý tưởng cho môi trường khí chân không và môi trường khí trơ. Các máy sưởi PBN này được thiết kế có mục đích để sử dụng trong các lò phản ứng MBE (dầm phân tử), lò phản ứng CVD và các hệ thống tăng trưởng tinh thể khác.

Lò sưởi hỗn hợp graphite pyrolytic nitride-pyride-pyrolytic (PBN-PG) là một máy sưởi sử dụng PBN cách nhiệt cao làm chất nền và sử dụng sự phân hủy nhiệt áp suất thấp (CVD) ở áp suất thấp (dưới 10torr) và nhiệt độ cao để tăng tốc độ dẫn dẫn dẫn. Các thành phần chính của máy sưởi hỗn hợp này là Boron Nitride (PBN) và than chì pyrolytic (PG). Do khả năng chống ăn mòn tuyệt vời và khả năng chịu nhiệt độ cao, nó chủ yếu được sử dụng để gia nhiệt chất nền bán dẫn (được sử dụng trong MBE, MOCVD, lớp phủ phun, v.v.); Superconductor Chất nền sưởi ấm; làm nóng mẫu trong quá trình phân tích mẫu; Kính hiển vi điện tử làm nóng mẫu; làm nóng kim loại; Nguồn sưởi ấm bằng kim loại, v.v.

Máy sưởi PBN có thể chịu được nhiệt độ hoạt động lên tới 1600 ° C trong chân không và có khả năng cải thiện sốc nhiệt so với bất kỳ lựa chọn thay thế dựa trên kim loại nào mà bạn sẽ dựa vào. Bề mặt của lò sưởi cực kỳ mịn và đậm đặc và tạo ra các hạt ít hơn đáng kể trong quá trình hoạt động, điều này rất quan trọng đối với các ứng dụng trong đó ô nhiễm không thể được dung nạp như xử lý wafer bán dẫn.

Cấu trúc tổng hợp cung cấp tính đồng nhất nhiệt tuyệt vời trên bề mặt lò sưởi và các đường dẫn điện trở của nó có thể được tùy chỉnh để cho phép phân phối nhiệt phù hợp. Thiết kế này cho phép các chu kỳ hồi tưởng và thời gian hồi chiêu nhanh trong quá trình xử lý mà không bị nứt và phân tách do các hệ số giãn nở nhiệt tương tự của các vật liệu đã sử dụng. Các điện cực có khả năng chịu được hoạt động dòng điện cao liên tục và cũng tương thích trong chân không.

Semicorex cung cấp tính linh hoạt thiết kế không giới hạn cho các hình dạng, kích thước và yêu cầu năng lượng độc đáo khi cần thiết, để đáp ứng nhu cầu ứng dụng cụ thể; Cho dù đó là kích thước wafer tiêu chuẩn, hoặc hình học phức tạp hơn, chúng tôi đảm bảo độ chính xác về chiều và độ đồng nhất nhiệt trong mỗi đơn vị được sản xuất.

Máy sưởi tổng hợp PBN là hoàn hảo cho các ứng dụng siêu sạch, bao gồm:

• Hệ thống MBE cho xử lý bán dẫn hợp chất III-V và II-VI
• Hệ thống phủ chân không cho các thành phần quang học
• Hệ thống tăng trưởng tinh thể cho Sapphire và SIC
• Xử lý nhiệt độ tinh khiết cao cho môi trường phòng thí nghiệm nghiên cứu và phát triển.