Tấm silicon đơn tinh thể

Trong sản xuấttấm silicon đơn tinh thể, Phương pháp Czochralski (CZ) được sử dụng để sản xuất các thanh silicon đơn tinh thể có cấu trúc hoàn chỉnh và độ tạp chất cực thấp

nội dung. Sau đó, các thanh silicon đơn tinh thể này trải qua quá trình xử lý chính xác như cắt, mài, đánh bóng và làm sạch để chế tạo thành các tấm silicon đơn tinh thể. Các tấm silicon đơn tinh thể này có độ tinh khiết cao, đặc biệt là tấm wafer ở cấp độ IC, có thể đạt trên 9N (99,9999999%), đảm bảo hiệu quả hiệu suất điện tuyệt vời.

Silicon đơn tinh thể chiếm hơn 90% thị trường vật liệu bán dẫn. Nó hiện là vật liệu bán dẫn quan trọng nhất, được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp công nghệ thông tin và sản xuất mạch tích hợp.

Lĩnh vực ứng dụng:

1.chip logic hiệu suất cao (như CPU、GPU、FPGA),  chip bộ nhớ (như DRAM、NAND Flash), chip analog (như ADC và DAC) trong ngành sản xuất mạch tích hợp.

2. Các thiết bị điện tử cao cấp (như cảm biến hình ảnh CMOS (CIS) và cảm biến MEMS) trong ngành công nghệ thông tin.

Đặc điểm wafer:

Semicorex cung cấp các dịch vụ tùy chỉnh cho khách hàng của mình và có thể tùy chỉnh các tấm bán dẫn có điện trở suất, hàm lượng oxy, độ dày và các thông số kỹ thuật khác khác nhau tùy theo nhu cầu cụ thể của các khách hàng khác nhau. Để hỗ trợ khách hàng giải quyết một loạt các vấn đề phát sinh trong quá trình sản xuất, chúng tôi cũng cung cấp hỗ trợ kỹ thuật chuyên môn và dịch vụ hậu mãi.