Chất mang phủ SiC của Semicorex cho Hệ thống khắc plasma ICP là một giải pháp đáng tin cậy và tiết kiệm chi phí cho các quy trình xử lý tấm wafer ở nhiệt độ cao như epitaxy và MOCVD. Chất mang của chúng tôi có lớp phủ tinh thể SiC mịn mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội, đồng đều nhiệt và kháng hóa chất lâu bền.
Đọc thêmGửi yêu cầuGiá đỡ lát bán dẫn của Semicorex cho Quy trình khắc ICP là sự lựa chọn hoàn hảo cho các quy trình xử lý lát bán dẫn và lắng đọng màng mỏng đòi hỏi khắt khe. Sản phẩm của chúng tôi tự hào về khả năng chống ăn mòn và nhiệt vượt trội, thậm chí tính đồng nhất về nhiệt và mô hình dòng khí phân lớp tối ưu cho kết quả nhất quán và đáng tin cậy.
Đọc thêmGửi yêu cầuTấm khắc silicon của Semicorex cho các ứng dụng khắc PSS là chất mang graphite siêu tinh khiết, chất lượng cao được thiết kế đặc biệt cho quá trình tăng trưởng epiticular và xử lý wafer. Tàu sân bay của chúng tôi có thể chịu được môi trường khắc nghiệt, nhiệt độ cao và hóa chất tẩy rửa khắc nghiệt. Tấm ăn mòn silicon cho các ứng dụng ăn mòn PSS có đặc tính phân phối nhiệt tuyệt vời, độ dẫn nhiệt cao và tiết kiệm chi phí. Sản phẩm của chúng tôi được sử dụng rộng rãi ở nhiều thị trường Châu Âu và Châu Mỹ, và chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Đọc thêmGửi yêu cầu