Chất mang phủ SiC của Semicorex cho Hệ thống khắc plasma ICP là một giải pháp đáng tin cậy và tiết kiệm chi phí cho các quy trình xử lý tấm wafer ở nhiệt độ cao như epitaxy và MOCVD. Chất mang của chúng tôi có lớp phủ tinh thể SiC mịn mang lại khả năng chịu nhiệt vượt trội, đồng đều nhiệt và kháng hóa chất lâu bền.
Đọc thêmGửi yêu cầu