Tấm SiC của Semicorex cho Quy trình khắc ICP là giải pháp hoàn hảo cho các yêu cầu xử lý hóa chất khắc nghiệt và nhiệt độ cao trong lắng đọng màng mỏng và xử lý wafer. Sản phẩm của chúng tôi tự hào về khả năng chịu nhiệt vượt trội và tính đồng nhất về nhiệt, đảm bảo độ dày và độ bền của lớp epi nhất quán. Với bề mặt nhẵn và sạch, lớp phủ tinh thể SiC có độ tinh khiết cao của chúng tôi cung cấp khả năng xử lý tối ưu cho các tấm wafer nguyên sơ.
Đọc thêmGửi yêu cầu