Khắc plasma ở nhiệt độ thấp là gì?

Plasma là trạng thái thứ tư của vật chất và nó đóng vai trò quan trọng trong cả ứng dụng công nghiệp và hiện tượng tự nhiên. Ví dụ, plasma có trong sét và được tạo ra rất nhiều trên bề mặt mặt trời, nơi nhiệt độ lõi đạt tới mức đáng kinh ngạc là 13.500°C. Plasma nhiệt độ cao này không phù hợp với hầu hết các quy trình sản xuất công nghiệp.

Mặt khác, plasma nhiệt độ thấp là một dạng plasma được tạo ra nhân tạo, sử dụng năng lượng chứ không phải nhiệt để tăng tốc các phản ứng hóa học. Nhiệt độ của nó thường dao động từ nhiệt độ phòng đến vài trăm độ C, khiến nó có hiệu quả cao cho các ứng dụng khác nhau.

Các bước tạo huyết tương nhân tạo:

1. Giảm áp suất trong buồng: Bắt đầu bằng cách sử dụng bơm chân không để giảm áp suất trong khoang. Đạt được áp suất thấp là điều cần thiết để ổn định plasma và tạo điều kiện thuận lợi cho quá trình ion hóa khí.

2. Đưa khí xử lý: Bơm các loại khí xử lý cụ thể vào khoang. Những khí này đóng vai trò là nguồn chính của các hạt trong plasma.

3. Kích thích Plasma: Áp dụng năng lượng để ion hóa chất khí, hình thành plasma một cách hiệu quả.

4. Tắt plasma và khôi phục áp suất khí quyển: Sau khi các phản ứng mong muốn hoàn tất, hãy tắt plasma và đưa buồng về áp suất khí quyển.

Ứng dụng của Plasma nhiệt độ thấp trong sản xuất chất bán dẫn:

Plasma nhiệt độ thấp không thể thiếu trong sản xuất chất bán dẫn, phục vụ các chức năng quan trọng trong khắc khô, lắng đọng hơi vật lý (PVD), lắng đọng hơi hóa học (CVD), lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), cấy ion, tro hóa và phát hiện điểm cuối. Tính linh hoạt và hiệu quả của nó làm cho nó trở thành một công cụ cơ bản trong ngành.

Ưu đãi của Semicorexgiải pháp chất lượng cao cho khắc plasma. Nếu bạn có bất kỳ thắc mắc hoặc cần thêm chi tiết, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.

Số điện thoại liên hệ +86-13567891907

Email: sales@semicorex.com